北京
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国家知识产权局信息显示，通快激光系统半导体制造股份公司申请一项名为“用于EUV光系统的观测装置以及对应的EUV光系统”的专利，公开号CN121312254A，申请日期为2024年4月。
专利摘要显示，本发明涉及用于EUV光系统（1）的观测装置（3），该观测装置用于观测用于EUV光生成的材料滴（2）。观测装置（3）包括：光学器件（6），用于将测量激光束（4）引导至材料滴（2）和沿预给定的光束路径引导对应的反射的光（7）；以及传感器系统（9），定位在光束路径的端部处，用于检测反射的光（7）。为了阻止在光学器件（6）处发生的对测量激光束（4）的干扰反射（11，14，17，21），在光学器件（6）与传感器系统（9）之间至少在光束路径的中心区域中定位光阻挡元件（12，20，22），从而确保反射的光（7）中的至少一些可以到达传感器系统（9），而不管光阻挡元件（12，20，22）如何。本发明还涉及包括这样的观测装置（3）的EUV光系统（1）。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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