北京
国家知识产权局信息显示，擎方科技（济南）有限公司申请一项名为“一种用于负载效应补偿的版图生成方法及相关装置”的专利，公开号CN121299994A，申请日期为2025年12月。
专利摘要显示，本发明公开了一种用于负载效应补偿的版图生成方法及相关装置，应用于光刻技术领域，包括：获取光掩模版数据；根据光掩模版数据对掩模版图进行网格划分，并确定每一网格中的版图密度；将各个网格的版图密度与目标密度进行比对，确定各个网格对应的密度差值；根据密度差值确定各个网格所对应的虚拟图形；在网格对应的版图区域中添加对应的虚拟图形形成补偿后掩模版图。通过对掩模版图进行网格划分，计算每个网格中具体的版图密度并依据该版图密度与目标密度的差值向网格对应的版图区域中添加对应的虚拟图形，可以有效补偿各个网格中版图区域的图形密度，从而平衡版图中各个区域的负载效应，提升刻蚀均匀性。
天眼查资料显示，擎方科技（济南）有限公司，成立于2023年，位于济南市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本30000万人民币。通过天眼查大数据分析，擎方科技（济南）有限公司参与招投标项目7次，专利信息5条，此外企业还拥有行政许可3个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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