北京
国家知识产权局信息显示，武汉帝尔激光科技股份有限公司取得一项名为“一种蚀刻设备”的专利，授权公告号CN223793055U，申请日期为2024年12月。
专利摘要显示，本申请公开了一种蚀刻设备。该蚀刻设备包括：真空浸润装置包括浸润槽和真空机构，真空机构连接浸润槽并用于对浸润槽抽真空；碱腐蚀装置中，第一温控组件用于控制碱液槽内的碱液处于预设的第一温度值，第一鼓泡组件用于在碱液中产生气泡；和/或，酸腐蚀装置包括酸液槽、第二温控组件和第二鼓泡组件，第二温控组件用于控制酸液槽内的酸液不超过预设的第二温度值，第二鼓泡组件用于在酸液中产生气泡；搬运装置将经真空浸润装置处理后的物料搬运至碱腐蚀装置和酸腐蚀装置中的至少一者。通过上述方式，本申请提供的蚀刻设备能够基于需求定制与玻璃基板相适应的最优湿法蚀刻工艺，能够极大地提升玻璃基板的成孔效率。
天眼查资料显示，武汉帝尔激光科技股份有限公司，成立于2008年，位于武汉市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本27356.225万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉帝尔激光科技股份有限公司共对外投资了6家企业，参与招投标项目43次，财产线索方面有商标信息5条，专利信息506条，此外企业还拥有行政许可49个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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