北京
国家知识产权局信息显示，天津美泰真空技术有限公司申请一项名为“一种低反高透镀膜工艺”的专利，公开号CN121292837A，申请日期为2025年11月。
专利摘要显示，本发明属于玻璃表面处理技术领域，尤其是涉及一种低反高透镀膜工艺，包括：对玻璃基板表面进行预处理；在所述玻璃基板上采用等离子体增强原子层沉积工艺，沉积形成一层梯度折射率减反射层，所述梯度折射率减反射层的折射率自内向外递减；在沉积所述梯度折射率减反射层的进程中或之后，对膜层进行至少一次脉冲退火处理，所述脉冲退火处理包括交替进行的快速热退火和传统热退火；在完成所述梯度折射率减反射层的沉积后，进行原位封孔处理，通入氟硅烷蒸汽对膜层表面进行强化处理。本发明所述的一种低反高透镀膜工艺，通过PEALD沉积梯度折射率层，实现了在宽光谱范围内极低的反射率和极高的透光率。
天眼查资料显示，天津美泰真空技术有限公司，成立于2006年，位于天津市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本358.5万美元。通过天眼查大数据分析，天津美泰真空技术有限公司共对外投资了3家企业，参与招投标项目22次，专利信息109条，此外企业还拥有行政许可31个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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