北京
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国家知识产权局信息显示，物联记忆体科技股份有限公司申请一项名为“非挥发性存储器元件和其制造方法”的专利，公开号CN121284963A，申请日期为2025年6月。
专利摘要显示，本发明公开一种非挥发性存储器元件及其制造方法，制造方法包括在基板上形成两个叠层结构，且在叠层结构之间形成一个间隙；形成覆盖两个叠层结构且填充该间隙的浮置闸极层，所述浮置闸极层包含凹陷区；将第一遮罩层填充至凹陷区；去除部分第一遮罩层，以在凹陷区形成第一遮罩；去除部分浮置闸极层，以保留位于间隙内的浮置闸极层，浮置闸极层的顶面与第一遮罩在侧向上分离；在第一遮罩的覆盖下，将浮置闸极层的顶面转换成第二遮罩；去除凹陷区内的第一遮罩；并以第二遮罩作为蚀刻遮罩，蚀刻浮置闸极层。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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