北京
国家知识产权局信息显示，江苏优众微纳半导体科技有限公司申请一项名为“一种基于刻蚀均匀性补偿的超透镜设计方法及其优化系统”的专利，公开号CN121276789A，申请日期为2025年11月。
专利摘要显示，本发明公开了一种基于刻蚀均匀性补偿的超透镜设计方法及其优化系统，具体包括S1、刻蚀晶圆与建立刻蚀速率空间分布模型S2、设计版图分区与分配补偿系数；S3、纳米结构尺寸预补偿；S4、生成最终掩模并执行刻蚀；本发明通过在掩模设计阶段主动进行纳米结构的空间尺寸预补偿，利用纳米单元等效折射率的变化来抵消因刻蚀深度不均引起的相位偏差，从而在非理想的工艺条件下获得高性能的超透镜，突破了工艺物理极限的限制。
天眼查资料显示，江苏优众微纳半导体科技有限公司，成立于2023年，位于南通市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本14214.6544万人民币。通过天眼查大数据分析，江苏优众微纳半导体科技有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目12次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息50条。
声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。
本文源自：市场资讯
作者：情报员
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
