北京
国家知识产权局信息显示，深圳市天晟微电子材料有限公司申请一项名为“一种UV固化高耐候光学薄膜及其制备方法”的专利，公开号CN121270997A，申请日期为2025年10月。
专利摘要显示，本发明公开了一种UV固化高耐候光学薄膜及其制备方法，涉及光学薄膜技术领域。该光学薄膜由聚对苯二甲酸乙二醇酯作基材，涂覆UV固化涂料制得，其中UV固化涂料包含以下重量份原料：15‑20份脂肪族聚氨酯丙烯酸酯、5‑8份全氟丁基乙基丙烯酸酯、8‑12份羟乙基丙烯酸酯、6‑10份1,6‑己二醇二丙烯酸酯、5‑8份三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、30‑40份改性环氧丙烯酸酯、1‑2份硅烷偶联剂KH‑570、2‑3份光引发剂1173、0.5‑1.2份改性紫外吸收剂UV‑327、0.8‑1.5份受阻胺光稳定剂540、0.3‑0.8份抗氧剂1010、0.09‑0.12份紫外吸收剂Tinuvin400、0.2‑0.5份聚醚改性聚二甲基硅氧烷。该UV固化高耐候光学薄膜以聚对苯二甲酸乙二醇酯为基材，涂覆配方科学的UV固化涂料，改性环氧丙烯酸酯等关键原料制备精细，且采用两段固化工艺，耐候性能优异。
天眼查资料显示，深圳市天晟微电子材料有限公司，成立于2009年，位于深圳市，是一家以从事批发业为主的企业。企业注册资本1300万人民币。通过天眼查大数据分析，深圳市天晟微电子材料有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目1次，专利信息36条，此外企业还拥有行政许可11个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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