北京
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国家知识产权局信息显示，南昌大学、南昌实验室、南昌硅基半导体科技有限公司申请一项名为“一种加热系统以及金属有机化学气相沉积设备”的专利，公开号CN121272551A，申请日期为2025年9月。
专利摘要显示，本申请实施例提供一种加热系统以及金属有机化学气相沉积设备，所述加热系统包括：加热器，包括加热炉丝；石英筒，用于包裹所述加热器；热隔离部件，设置在所述石英筒与所述加热炉丝之间的热传递路径上且设置在所述石英筒靠近所述加热炉丝的一端；石墨板，为圆柱形平板，位于所述加热炉丝上方且被所述石英筒支撑。本申请的实施例可以优化石墨盘的结构，降低石墨盘的制造、及后续外延生产中使用成本，并且提高加热系统的稳定性，使加热系统更加简洁，可靠性更高。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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