国家知识产权局信息显示,同方威视技术股份有限公司申请一项名为“探测器和探测系统”的专利,公开号CN121254329A,申请日期为2025年9月。
专利摘要显示,本发明提供了一种探测器和包括该探测器的探头。该探测器包括:探头。其中,探头包括第一闪烁体和第二闪烁体;第二闪烁体是在第一闪烁体外部除出光面外的表面上形成的一层材质不同的闪烁体。其中,第一闪烁体的辐射探测效率大于或等于第一效率阈值的第一能量辐射范围为[E11,E12],第二闪烁体的辐射探测效率大于或等于第一效率阈值的第二能量辐射范围为[E21,E22],其中,第二能量辐射范围的下限E21小于第一能量辐射范围的下限E11,且第二能量辐射范围的上限E22小于第一能量辐射范围的上限E12。
天眼查资料显示,同方威视技术股份有限公司,成立于2000年,位于北京市,是一家以从事电气机械和器材制造业为主的企业。企业注册资本18500万人民币。通过天眼查大数据分析,同方威视技术股份有限公司共对外投资了14家企业,参与招投标项目2754次,财产线索方面有商标信息297条,专利信息4168条,此外企业还拥有行政许可45个。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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