北京
国家知识产权局信息显示，上海星庆光学仪器有限公司申请一项名为“基于短中波红外显微成像的半导体缺陷检测方法及设备”的专利，公开号CN121253551A，申请日期为2025年10月。
专利摘要显示，本发明提供了一种基于短中波红外显微成像的半导体缺陷检测方法及设备，包括：选择波长大于等于2.5微米的短中波红外波段作为检测工作波段，采用可覆盖检测工作波段的红外光源与相应的红外面阵探测器；构建红外显微成像光路，通过红外照明光路将红外光源发出的光经分束镜和红外显微物镜后照射至样品表面；通过红外显微物镜收集样品反射光，成像于红外面阵探测器；对样品进行二维视场扫描，通过对焦机构实现成像，检测表面与内部缺陷；对红外光源进行调制，使样品反射的信号光为交流信号，与背景自发辐射的直流噪声分离，滤除噪声并提高图像信噪比后检测半导体样品内部缺陷。本发明为半导体缺陷检测提供了高灵敏度及高分辨率的解决方案。
天眼查资料显示，上海星庆光学仪器有限公司，成立于1999年，位于上海市，是一家以从事零售业为主的企业。企业注册资本100万人民币。通过天眼查大数据分析，上海星庆光学仪器有限公司参与招投标项目1次，财产线索方面有商标信息9条，专利信息14条，此外企业还拥有行政许可6个。
声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。
本文源自：市场资讯
作者：情报员
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
