北京
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国家知识产权局信息显示，湖北兴福电子材料股份有限公司申请一项名为“一种氮化钼比钼的选择性蚀刻液”的专利，公开号CN121249368A，申请日期为2025年10月。
专利摘要显示，本发明公开了一种氮化钼比钼的选择性蚀刻液，蚀刻液主要包含50~70%酸性溶液，5~10%氧化性溶液，0.5~5%含氟溶液，0.2~2%络合剂，0.1~1%催化剂，剩余为去离子水，本发明可实现氮化钼比钼的蚀刻选择比处于3~5之间，满足制程的需求。
天眼查资料显示，湖北兴福电子材料股份有限公司，成立于2008年，位于宜昌市，是一家以从事化学原料和化学制品制造业为主的企业。企业注册资本36000万人民币。通过天眼查大数据分析，湖北兴福电子材料股份有限公司共对外投资了8家企业，参与招投标项目167次，财产线索方面有商标信息4条，专利信息447条，此外企业还拥有行政许可282个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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