北京
国家知识产权局信息显示，卡尔蔡司SMT有限责任公司申请一项名为“用于生产光学元件的方法、光学元件和涂覆设备”的专利，公开号CN121263717A，申请日期为2024年5月。
专利摘要显示，本发明涉及一种用于生产光学元件的方法、以及一种光学元件和一种涂覆设备。在根据本发明的方法中，从至少一个源（901）向至少一个基板（101、300、400、800、903）供应涂层材料，以分别在基板上沉积层系统，其中，通过对沉积的涂层材料和/或基板进行有针对性的空间分辨选择和/或处理，形成多个区域（111、112、121、122），这些区域在至少一个预定义方向上彼此横向相邻并且每个区域具有定义的层厚度分布和定义的层组成，其中这些区域在其层厚度分布和/或其层组成方面彼此不同，其中区域在预定义方向上的平均尺寸分别在0.1 mm至2 cm的范围内，其中光学元件是具有多个反射镜元件的反射镜阵列，并且其中，对于该反射镜阵列的不同基板，产生分别沉积的层系统的相互不同的层厚度分布和/或层组成。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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