北京
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国家知识产权局信息显示，埃斯科绘图成像有限责任公司申请一项名为“用于在印刷版的溶剂最小化制造中最小化印版变形的工艺和系统”的专利，公开号CN121241308A，申请日期为2024年4月。
专利摘要显示，用于从印版前驱体创建完全显影的光聚合物印刷版的系统和工艺。以覆盖一个或多个限定的非印刷废弃区域的大部分的限定图案创建固化聚合物的一个或多个实心单元以及在固化聚合物的一个或多个实心单元中或之间的一个或多个间断。该单元具有小于或等于预定义值的单元表面积，并且该间断具有小于或等于预定义值的间断宽度。一个或多个单元的尺寸、一个或多个间断的尺寸、一个或多个间断的图案类型、或其组合是由用户经由用于执行该工艺的系统的用户接口选择的变量。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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