北京
国家知识产权局信息显示，北京奥普托科微电子技术有限公司申请一项名为“一种晶圆缺陷检测方法及计算机程序产品”的专利，公开号CN121236454A，申请日期为2025年9月。
专利摘要显示，本申请公开了一种晶圆缺陷检测方法及计算机程序产品，涉及半导体制造技术领域。该方法包括：通过乘性特性的信号采集方式，获取待测晶粒图像，将其与对齐的基准晶粒图像进行比对。将待测晶粒图像中较基准晶粒图像灰度值大的像素位置，作为正向亮区，根据正向亮区的灰度差值确定亮区差异图像；将基准晶粒图像中较待测晶粒图像灰度值大的像素位置，作为反向亮区，根据反向亮区的灰度差值确定暗区差异图像，将亮区差异图像/暗区差异图像与预设差异阈值比对得到检测结果。在基于预设差异阈值进行缺陷检测确保检测效率的同时，将待测晶粒图像的暗区检测转为反向亮区检测，利用乘性特性下亮区差异扩大的性质提高检测精度。
天眼查资料显示，北京奥普托科微电子技术有限公司，成立于2022年，位于北京市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本18027.5602万人民币。通过天眼查大数据分析，北京奥普托科微电子技术有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目5次，财产线索方面有商标信息6条，专利信息59条，此外企业还拥有行政许可2个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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