北京
国家知识产权局信息显示，沈阳国研微电技术有限公司申请一项名为“一种自适应超声波镜头清洗方法”的专利，公开号CN121198669A，申请日期为2025年9月。
专利摘要显示，本发明涉及一种自适应超声波镜头清洗方法，其特征在于：具体清洗方法如下：S1：数据同步采集；S2：污染状态分析；S3：动态决策；S4：驱动执行；S5：循环执行；本发明中突破了传统清洁技术的局限，实现了从污物感知到清洁策略制定的全流程自适应决策；通过权衡清洁效果、能耗和设备保护，决策引擎能够根据不同污物状态精准调整清洁参数，确保在高效清洁的同时，最大限度地保护光学镜头的精密镀膜；能够在单次操作中大幅减少残留污物，确保光学镜头表面达到理想的清洁状态；通过智能动态调节功率，根据污物状态和清洁需求精准分配能量，显著降低能耗，同时提升能源利用效率；具备广泛的适应性，适用于多种复杂环境下的光学镜头清洁任务。
天眼查资料显示，沈阳国研微电技术有限公司，成立于2024年，位于沈阳市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本100万人民币。通过天眼查大数据分析，沈阳国研微电技术有限公司专利信息2条。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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