广东
12月25日，中国政府采购网一则公示引爆半导体产业 —— 上海微电子装备（集团）股份有限公司（SMEE）以10999.985 万元中标 zycgr22011903 步进扫描式光刻机采购项目，设备型号为首次公开的 SSC800/10。
作为国内唯一具备前道光刻机研发制造能力的企业，此次单一来源采购的大额中标，不仅标志着国产中高端光刻机正式迈入商业化落地新阶段，更彰显了其在核心技术领域的不可替代性，为半导体产业链国产替代注入关键动力。
上海微电子商业化落地提速
上海微电子成立于 2002 年，隶属上海电气集团体系，背靠国资资源支持，已构建起覆盖前道制造、先进封装、特种工艺的全系列光刻机产品矩阵，成为国产光刻机产业的绝对核心。
产品布局方面，公司形成成熟制程量产、中高端突破以及特色工艺领先的梯度格局。
前道光刻机领域，90nm ArF 机型已实现规模化量产，国内市场份额超 80%，年出货量超 50 台；28nm 浸没式 DUV 光刻机（SSA/800-10W 型）于 2025 年 5 月完成首台交付，目前已进入批量交付阶段，良率提升至 95%，可覆盖 350nm 至 28nm 全节点制造需求。
特色工艺领域，先进封装光刻机全球市占率达 37%，国内市占率更是高达 85%，2.5D/3D 先进封装机型代表行业同类产品最高水平；LED 系列光刻机全球市占率 55%，占据市场主导地位。
此次中标的 SSC800/10 为 248nm KrF 机型，分辨率 110nm，主要适配先进封装、Mini/Micro LED、MEMS 等刚需场景，填补了国产该类机型的商业化空白。
市场与订单层面，公司客户覆盖中芯国际、华虹半导体等头部晶圆厂，以及科研机构与政府项目。此次中标采购方为科学技术部，采用单一来源采购方式，印证了其技术的不可替代性 —— 根据《政府采购法》，单一来源采购仅适用于采用不可替代专利、专有技术的特殊场景。
从金额来看，1.1 亿元的成交价格虽低于 ASML DUV 光刻机（约 5 亿元以上），但显著高于国内同类科研设备招标规模，标志着国产光刻机已具备商业级定价能力。产能方面，公司扩产计划已通过审批，产业化进程加速，预计将支撑后续订单规模化交付。
产业链带动效应显著，公司通过技术协同构建了完善的本土供应链。核心供应商包括福晶科技（独家供应 KBBF 晶体、光场匀化器）、茂莱光学（28nm DUV 物镜组，国产化率 60%）、苏大维格（对准系统）等，形成整机-核心零部件-材料的国产化生态，带动上下游企业技术升级与产能释放。
市场竞争与商业化挑战并存
当前，全球光刻机市场99% 的份额仍由 ASML、佳能、尼康占据，上海微电子在高端市场面临激烈竞争。
同时，国产光刻机的客户验证周期长、良率稳定性需持续优化，部分下游企业仍倾向于选择成熟的海外设备，商业化推广速度可能不及预期。
此外，公司尚未上市，资本运作空间有限，大规模研发与扩产面临一定的资金压力。
未来，若能持续突破核心技术、完善供应链、加速商业化落地，上海微电子有望逐步缩小与国际巨头的差距，从国产龙头成长为全球光刻机市场的重要参与者。
尽管前路漫漫，但此次中标事件已充分证明，国产光刻机正以坚定的步伐打破垄断，为半导体产业链自主可控注入持续动力。
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
