12月25日,中国政府采购网一则公示引爆半导体产业 —— 上海微电子装备(集团)股份有限公司(SMEE)以10999.985 万元中标 zycgr22011903 步进扫描式光刻机采购项目,设备型号为首次公开的 SSC800/10。
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作为国内唯一具备前道光刻机研发制造能力的企业,此次单一来源采购的大额中标,不仅标志着国产中高端光刻机正式迈入商业化落地新阶段,更彰显了其在核心技术领域的不可替代性,为半导体产业链国产替代注入关键动力。
上海微电子商业化落地提速
上海微电子成立于 2002 年,隶属上海电气集团体系,背靠国资资源支持,已构建起覆盖前道制造、先进封装、特种工艺的全系列光刻机产品矩阵,成为国产光刻机产业的绝对核心。
产品布局方面,公司形成成熟制程量产、中高端突破以及特色工艺领先的梯度格局。
前道光刻机领域,90nm ArF 机型已实现规模化量产,国内市场份额超 80%,年出货量超 50 台;28nm 浸没式 DUV 光刻机(SSA/800-10W 型)于 2025 年 5 月完成首台交付,目前已进入批量交付阶段,良率提升至 95%,可覆盖 350nm 至 28nm 全节点制造需求。
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特色工艺领域,先进封装光刻机全球市占率达 37%,国内市占率更是高达 85%,2.5D/3D 先进封装机型代表行业同类产品最高水平;LED 系列光刻机全球市占率 55%,占据市场主导地位。
此次中标的 SSC800/10 为 248nm KrF 机型,分辨率 110nm,主要适配先进封装、Mini/Micro LED、MEMS 等刚需场景,填补了国产该类机型的商业化空白。
市场与订单层面,公司客户覆盖中芯国际、华虹半导体等头部晶圆厂,以及科研机构与政府项目。此次中标采购方为科学技术部,采用单一来源采购方式,印证了其技术的不可替代性 —— 根据《政府采购法》,单一来源采购仅适用于采用不可替代专利、专有技术的特殊场景。
从金额来看,1.1 亿元的成交价格虽低于 ASML DUV 光刻机(约 5 亿元以上),但显著高于国内同类科研设备招标规模,标志着国产光刻机已具备商业级定价能力。产能方面,公司扩产计划已通过审批,产业化进程加速,预计将支撑后续订单规模化交付。
产业链带动效应显著,公司通过技术协同构建了完善的本土供应链。核心供应商包括福晶科技(独家供应 KBBF 晶体、光场匀化器)、茂莱光学(28nm DUV 物镜组,国产化率 60%)、苏大维格(对准系统)等,形成整机-核心零部件-材料的国产化生态,带动上下游企业技术升级与产能释放。
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市场竞争与商业化挑战并存
当前,全球光刻机市场99% 的份额仍由 ASML、佳能、尼康占据,上海微电子在高端市场面临激烈竞争。
同时,国产光刻机的客户验证周期长、良率稳定性需持续优化,部分下游企业仍倾向于选择成熟的海外设备,商业化推广速度可能不及预期。
此外,公司尚未上市,资本运作空间有限,大规模研发与扩产面临一定的资金压力。
未来,若能持续突破核心技术、完善供应链、加速商业化落地,上海微电子有望逐步缩小与国际巨头的差距,从国产龙头成长为全球光刻机市场的重要参与者。
尽管前路漫漫,但此次中标事件已充分证明,国产光刻机正以坚定的步伐打破垄断,为半导体产业链自主可控注入持续动力。
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