北京
国家知识产权局信息显示，南京和显达微电子科技有限公司申请一项名为“一种兼容Cu/Mo及Cu/MTD的蚀刻液及其应用”的专利，公开号CN121065701A，申请日期为2025年8月。
专利摘要显示，本发明提供了一种兼容Cu/Mo及Cu/MTD的蚀刻液及其应用，所述蚀刻液包括主剂和辅剂；所述主剂以重量份数计包括氧化剂5-22份、有机酸1-15份、无机酸0.01-5份、有机碱0.5-15份、稳定剂0.01-5份、金属抑制剂0.01-1份和水1-100份。本发明提供的蚀刻液能够有效兼容Cu/Mo及Cu/MTD两种不同的金属结构，在蚀刻过程中对不同金属膜层都能实现良好的蚀刻效果，减少了因蚀刻液兼容性差导致的蚀刻不良问题，提高了产品的良品率；对Cu/Mo及Cu/MTD合金双层膜等均具有优异的蚀刻性能，蚀刻后无残留，并且不会损坏玻璃基板等基底材料，满足了现代电子制造工艺对蚀刻液的高要求。
天眼查资料显示，南京和显达微电子科技有限公司，成立于2021年，位于南京市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本50万人民币。通过天眼查大数据分析，南京和显达微电子科技有限公司参与招投标项目3次，此外企业还拥有行政许可5个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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