北京
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国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“校正栅格失真”的专利，公开号CN121039772A，申请日期为2024年4月。
专利摘要显示，一种用于操作带电粒子光学装置的方法，该方法包括：利用带电粒子光学装置用带电粒子束扫描包括一系列位置的样品，以便生成扫描数据；从位置到位置改变带电粒子光学装置的至少一个带电粒子光学参数的设置，其中该至少一个带电粒子光学参数影响扫描数据的带电粒子光学栅格失真；以及基于至少一个带电粒子光学参数的改变的设置，补偿带电粒子光学栅格失真。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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