北京
国家知识产权局信息显示，北京诺禾致源科技股份有限公司申请一项名为“基于位点深度的基因组缺失型结构变异准确性评估方法及装置”的专利，公开号CN121034401A，申请日期为2025年10月。
专利摘要显示，本发明公开了一种基于位点深度的基因组缺失型结构变异准确性评估方法及装置。其中，该方法包括：通过比对数据处理软件计算基因组上每一位点的比对深度，得到比对深度数据，其中，基因组是需要进行缺失型结构变异识别的对象；利用结构变异检测工具对基因组进行基因组缺失变异识别，得到基因组上存在基因组缺失变异的候选基因片段；根据比对深度数据对候选基因片段进行深度特征分析，得到深度特征分析结果；根据深度特征分析结果确定候选基因片段中的目标基因片段，其中，目标基因片段是候选基因片段中缺失型结构变异的基因片段。本发明解决了相关技术中缺失型结构变异检测方式存在假阳性率高，导致检测结果可靠性较低的技术问题。
天眼查资料显示，北京诺禾致源科技股份有限公司，成立于2011年，位于北京市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本41620万人民币。通过天眼查大数据分析，北京诺禾致源科技股份有限公司共对外投资了18家企业，参与招投标项目2326次，财产线索方面有商标信息258条，专利信息127条，此外企业还拥有行政许可5个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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