谁才是EUV光刻体系中，真正的技术老大？并不是ASML

说起芯片制造这块儿，EUV光刻机就是那把最锋利的刀子，没它，7纳米以下的先进制程根本玩不转。全球就荷兰的ASML一家在卖这种机器，价格贵得离谱，一台上亿欧元不说，还得整个工厂改建才能装下。很多人直呼ASML牛逼，技术老大非它莫属。

ASML的厉害在于它会当“总导演”，把全世界的技术高手拉一块儿，拼出一台完整的EUV机。但核心部件呢？光源、镜面、精密台，这些关键玩意儿，它基本都靠外包。

尤其是那套光学系统，全球就德国蔡司一家能搞定，没它，EUV链条直接瘫痪。所以，真正卡脖子的那位大哥，其实是蔡司。数据摆在那儿，全球80%的芯片光学组件都出自蔡司手笔。

蔡司从光学小作坊到EUV镜面霸主的底气

蔡司这家公司，根儿老得发霉了，得从1816年说起。那年，卡尔·蔡司在德国一个小镇出生，本来家里是干木匠活儿的，他从小就对精密东西感兴趣。大学念物理和数学，毕业后先在药房混，负责磨玻璃啥的，但很快就自己单干，1846年在耶拿开了间小光学作坊。

起步时就盯着显微镜这块儿，因为当时医学和科学界正缺好工具放大细胞啥的。他手工打磨镜片，慢慢做出第一批产品，质量过硬，很快就卖到大学和医院。1857年，推出复合显微镜，能放大几百倍，那时候的科学家用它看清细菌结构，订单刷刷上来。

到1866年，蔡司拉上恩斯特·阿贝，这位物理学家带来衍射理论，帮他解决色差问题。两人搭档，产品直线上升。1872年，阿贝发明消色差物镜，成像不模糊了，显微镜销量翻倍。

接着1883年，奥托·肖特加入，搞出高纯度玻璃配方，镜片折射率稳如老狗。这仨人合力，把蔡司从作坊变成光学巨头。1888年蔡司去世后，阿贝接棒，设基金会模式，利润全投研发，不让资本家乱来。到20世纪初，蔡司镜头用到摄影机和天文望远镜，出口全球。

二战打乱节奏，德国分裂，东德耶拿厂做消费光学，西德奥伯科亨厂转军工和工业。战后统一进程慢，1950年代西德蔡司开始碰半导体，1968年就给Telefunken供光刻镜头。

那时候集成电路刚起步，光刻机还用可见光，蔡司的玻璃镜片就占大头。1977年，蔡司正式进军半导体光学，针对步进式光刻机优化设计。1980年代，芯片节点从10微米缩到亚微米，蔡司跟上节奏，开发浸没式光学系统，用液体介质提高分辨率。

转折点在1983年，蔡司启动EUV预研。那时候EUV还只是实验室概念，波长13.5纳米的光，穿透力弱得在空气里就散了，得用真空和反射镜。蔡司砸钱建实验室，专攻多层涂层镜面，钼硅材料一层一层堆，厚度控制在纳米级。

1990年代，两德统一后，蔡司整合资源，1991年和ASML签联盟协议。ASML当时还小，靠蔡司的DUV光学起家。1995年，双方在奥伯科亨开EUV研讨会，敲定合作框架。蔡司的贡献不小，它提供投影系统原型，测试时分辨率已到22纳米。

到2000年，欧盟IMEC项目拉蔡司入伙，共享数据，资金到位建新厂。蔡司光学出口破亿欧元，专利库囤积上千项。2012年，第一批商用EUV光学交付三星，里面投影镜组重2吨，零件2万个。蔡司的Starlith系列问世，照明和投影一体，效率高到70%以上。

蔡司的EUV光学直接决定芯片良率，没它，曝光图案就歪。2025年，蔡司庆祝EUV光学30周年，投射结构已低于10纳米，支撑AI和量子芯片。它的底气，就在于从显微镜时代攒下的光学积累，别人抄都抄不来。

ASML的拼图游戏：整合高手，但离不开蔡司的镜子

ASML这公司，1984年在荷兰 Eindhoven 成立，本来是飞利浦的子公司，起步做DUV光刻机。1990年代，芯片缩到65纳米，传统光源不够用，ASML押注EUV，和蔡司、美国能源部实验室联手。

2006年，第一台EUV原型机出炉，但产量低，良率惨。2010年后，ASML优化供应链，才慢慢商用。2025年，ASML垄断EUV市场，100%份额，高NA版本计划交付，重量15万公斤，长14米，专为2纳米节点。

可ASML的牛逼，在于它不自己造核心部件，而是当供应链总协调。EUV机有几十万零件，分光源、照明、投影、晶圆台四大块。光源占27%，美国Cymer（现在ASML子公司）负责激光产生等离子体，锡滴被CO2激光击中，喷出13.5纳米光。

2025年10月，ASML表彰德国Trumpf的新EUV激光，系列产从2026年开始，功率更高，芯片厂用它印更多逻辑门。Trumpf的CO2激光是光源关键，ASML独家采购。

腔体和真空占32%，荷兰VDL铸造机身，英国Edwards泵抽真空，确保无尘。精密台是荷兰TNO的活儿，磁悬浮移动晶圆，速度200米/秒，误差皮米级。日本材料占27%，信越化学的光刻胶涂层均匀，JSR的硅晶圆基底纯度高。光学系统14%，全指蔡司。

它的物镜塔高1.5米，重3.5吨，3.5万零件。照明系统1.5吨，1.5万组件；投影2吨，2万零件。多层镜面反射EUV光，涂层40层以上，每层2.8纳米，粗糙度0.1纳米以下。蔡司的专利超1500项，涵盖浸没和EUV设计，全球无替代。

ASML组装在Eindhoven工厂，2025年Q3净利亮眼，但供应链脆弱。地缘风险大，美国禁令限售中国，ASML得绕道。蔡司的镜面是瓶颈，没它，ASML的EUV就成空壳。

2016年，ASML买下蔡司SMT 24.9%股份，绑得更紧，高NA EUV靠着合作。ASML的AI策略，赌EUV续命，但镜面升级全看蔡司迭代。说白了，ASML是好导演，蔡司是首席摄影师，没摄影师，片子拍不出来。

全球EUV链条的隐形推手：不止蔡司，还有谁在卡位

EUV不是ASML一家的独角戏，背后是欧洲-美-日混搭的生态。美国光源霸主，Cymer的激光器占大头，2025年升级版功率翻倍，帮台积电3纳米线充量。

德国不光蔡司，Trumpf的激光放大光源效率，2025年测试成功，ASML供应商奖直接颁它。荷兰本土，VDL的腔体铸造，钢材焊接精度毫米级，抗震设计扛住工厂振动。

日本材料稳，2025年EUV胶市占超60%，信越的化学配方耐高温，不易变形。供应链Tier1有几十家，Tier2/3上百家。ASML的BOM单子长得吓人，光镜面就蔡司独供，其他如冷却系统是丹麦Danfoss，真空阀门瑞士VAT。

2025年市场规模1210亿美元，EUV拉动11.8% CAGR，到2034年翻番。中国想自建ASML，砸1.38万亿人民币补链条，但EUV最难，镜面和光源卡死。

上海微电子的DUV还行，EUV原型遥遥无期。但生态脆，疫情或贸易战一打，延误半年产量腰斩。蔡司的角色最大，它不光供货，还帮ASML调试，驻厂工程师调参数，良率从50%提到90%。

其他推手如IMEC，比利时研发中心，2025年测试高NA原型，数据反馈给ASML和蔡司。欧洲联合项目，德国政府投EUV fab，帮蔡司扩产。

隐形里，美国能源部实验室早期数据共享，没它，EUV波长选13.5纳米就悬。链条上，每环都专，但蔡司的镜面是枢纽，断它，全盘皆输。

2025年后EUV的下一站：高NA时代谁笑到最后

2025年，EUV进入高NA阶段，数值孔径从0.33跳到0.55，分辨率直奔1纳米以下。ASML首台高NA机重15吨，预计在2025年底出货，客户锁英特尔Oregon厂。

蔡司的Starlith 3600系统适配，镜面增到15层，反射率超75%，热负载扛住每小时几千次曝光。ZEISS SMT的30年庆上，强调欧洲联合，德国光学领跑。

市场预测，EUV从2024年114亿刀，2025起年增16.8%，AI芯片需求爆棚。ASML的垄断续命，但竞争隐现，日本尼康和佳能的DUV还行，EUV难追。

蔡司的专利壁垒高，2025年新涂层技术，耐久性翻倍，少维护。供应链优化，ASML推数字化BOM，实时追踪零件，防延误。地缘上，美国CHIPS Act投520亿，稳EUV生态，但限华影响大。长远，高NA后是EUV+，可能混多光束，蔡司已预研。

ASML的AI赌注对，但蔡司的镜面升级决定成败。谁是老大？蔡司的隐形手，捏着EUV的命门。芯片赛道，长跑靠耐力，蔡司这德国老将，底子厚，跑得稳。