美国最不愿看到的事发生，英国媒体：中国开始测试DUV光刻机

英国的金融时报在2025年9月16日扔出一篇报道，直接点明中国最大的芯片代工厂中芯国际已经在试用本土生产的DUV光刻机。这玩意儿不是最顶尖的EUV，但对芯片制造来说已经是关键一步了。

报道里说，这台机器出自上海的一家初创公司，叫裕量晟科技，他们搞的是浸没式DUV，能处理28纳米工艺，通过多重图案化技术勉强挤到7纳米级别。这消息一出，美国那边估计得坐不住了，因为他们这些年花大力气封锁中国先进芯片技术，现在看起来有点白费劲。

DUV光刻机是芯片生产的核心设备，用深紫外光在硅片上刻图案。全球市场基本被荷兰的ASML垄断，他们的机器集成了上千家供应商的零件，从德国的蔡司光学到美国的激光源，全是国际合作的结果。美国从2019年起就开始搞出口管制，先是针对EUV，后来连DUV也卡得死死的。

2023年，美国拉着荷兰和日本一起加强限制，禁止向中国出口能做7纳米以下的DUV机器。荷兰政府在2024年进一步收紧，特定型号如NXT:2050i直接禁售中国。目的很明显，就是想拖慢中国在AI、5G这些高科技领域的步伐，让中国芯片卡在成熟制程上没法往下走。

但中国这边没闲着。从2020年起，国家层面就加大投入，搞大基金支持本土半导体产业。上海微电子设备集团（SMEE）是主力，早几年就推出过193纳米DUV，但精度只到65纳米左右，不够用。现在裕量晟冒出来了，这家公司据说是华为生态链的一部分，背后有SiCarrier的技术支持。

他们从2023年开始低调研发，2025年上半年组装出第一台样机。金融时报采访了业内人士，说中芯国际从7月开始在上海工厂测试，目标是到2026年把产量翻三倍。虽然初期良率不高，可能只有国际水平的70%，但这已经是突破了。想想看，以前中国靠囤积ASML的老机器维持7纳米生产，现在本土设备上场，意味着供应链更稳了。

美国为啥最不愿意看到这个？因为他们的“锁芯计划”本质上是时间赛跑。芯片制程分界线在28纳米以上是成熟的，下面是先进的，占全球高端需求的90%。美国想用制裁锁死中国7纳米以下的能力，顺带拖累AI和自动驾驶发展。

但现在DUV国产化了，中国就能建5纳米的全产业链。英伟达老板黄仁勋早在2023年就说过，制裁只会逼中国自己搞定。他和ASML总裁彼得·温尼克都警告过，这么搞适得其反。结果呢？中国提前了五年，本来业界觉得2030年才能突破，现在2025年就测试上了。全球芯片市场20万亿的蛋糕，美国本来想独吞大头，现在中国有话语权了。

DUV用193纳米波长，通过浸没液提高分辨率。裕量晟的机器据说集成了本土光源和光学系统，虽然部分零件还靠进口，但核心技术是自己的。测试中，他们先从28纳米起步，逐步试多重曝光，目标是7纳米。报道说，如果成功，华为的昇腾芯片、寒武纪的AI处理器就能用本土设备生产，不用看别人脸色了。

国际半导体协会在2025年10月分析，中国这步虽快，但离ASML的EUV还有差距。EUV用13.5纳米波长，能轻松做3纳米以下。但中国两条腿走路，一方面追EUV，华为在东莞测试LDP光源，计划2026年量产；另一方面优化DUV，抢占中高端市场。

影响可不小。首先，美国制裁失效了。以前中国市场大，ASML、英伟达还帮着说好话，现在中国自产DUV，他们的王牌没了。英特尔、高通这些美国公司垄断先进芯片，最怕中国整合产业链，提供从设计到生产的整套服务。全球只有中国有这么大的市场和产能，竞争起来美国怎么玩？

其次，全球科技话语权变了。AI革命靠先进芯片，训练大模型需要5纳米级别。中国自产后，壁仞科技这些本土企业就能正面刚西方巨头。20万亿市场，美国可能只剩汤喝了。更麻烦的是，下一步中国瞄准EUV和1纳米后技术。目前全球卡在1纳米，物理极限在哪，谁先探索新路线谁领先。中国有时间窗口，弯道超车不是梦。

中国在逆向工程ASML机器时出过岔子，2025年10月亚洲时报报道，一家中国公司拆了DUV想复制，结果组装不回，叫ASML帮忙修。这说明技术门槛高，短期内本土机器良率低，成本高。但长远看，中国半导体自给率会升。趋势力报告说，2025年ASML对华销售占25%，但本土EUV还需几年。清华大学和北大在光源上突破，13.5纳米波长已实现，未来整合成机器指日可待。

美国想维持主导，但中国自力更生速度超预期。全球芯片生态变了，谁笑到最后还得看。现在中国这条道修通了，美国得想想下一步怎么走。