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说起半导体这行当,谁不知道光刻机是命根子,尤其是DUV那种深紫外浸没式设备,基本是主流芯片生产的标配。2024年9月7日,荷兰政府扔出一份公告,直接把ASML的NXT:1970i、1980i、2000i及更高型号的DUV光刻机对华出口卡得死死的,得层层审批才能过关。
早从2018年美国就开始撺掇荷兰动手,起初针对EUV那套更先进的玩意儿,2019年就直接封死了中国市场大门。现在轮到DUV了,荷兰说这是为了跟盟国协调,维护技术安全,但明眼人都看得出,这棒子还是美国在后面抡。
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回想2023年3月,荷兰刚开始试水,要求ASML的NXT:2050i和2100i型号出口中国得申请许可证。那时候影响还小,主要卡在高端逻辑芯片的中间层刻蚀上,这些设备能处理40纳米线宽,挺关键的。结果2024年1月2日,荷兰直接吊销了部分2023年批的许可证,ASML赶紧发声明,说少数中国客户订单泡汤了,价值好几亿美元。
ASML的首席执行官彼得·温宁克在电话会上直言,这是美国商务部评估“军用风险”后的结果,公司得照办。同期,荷兰议会还辩论了好几个月,经济部长玛丽·德·加恩一口咬定这是欧洲技术主权的需要,反对党倒嘀咕这会砸了ASML每年从中国赚的20亿欧元饭碗。辩论到6月底,法案过了,还把维修服务也管起来,ASML在北京的中心得上报每台设备的运行日志。
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这波操作的根儿在美国。华盛顿从上世纪90年代就盯上ASML了,1997年搞了个EUV LLC联盟,拉着ASML在美国建厂、设研发中心,结果ASML的EUV零部件90%靠进口,美国供应商占55%。到2020年底,美国基金捏着ASML近30%的股份,EUV出口自然得听美国的。中国从2019年起就买不到EUV,只能靠DUV多重曝光勉强拼7纳米制程。
DUV不一样,它是ASML自己搞出来的,193纳米波长光源,从2003年TWINSCAN NXT:1950i首台商用机开始,就垄断了市场。到2006年,日本尼康跟风上马类似产品时,ASML早跟台积电绑死了,全球芯片产量六成以上都靠它。DUV能盖7纳米到130纳米制程,够用在手机、汽车这些日常货上,美国没主导权,所以ASML起初还能卖给中国,不用美国点头。
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可美国不干啊,2023年10月单方面限了1970i和1980i的出货,ASML警告中国客户2024年起别指望这些了。2024年8月31日,美国国会中国问题特别委员会又写信给荷兰,要求卡DUV中端零配件,NXT:1980系列的镜头清洁剂和光刻胶件得审90天。9月5日,海牙最后磋商,ASML老总跟官员谈缓冲,同意现有设备升级但新机禁售。
9月7日公告一出,执行立马跟上。荷兰出口管制局设热线,第一批两台NXT:2050i卡在鹿特丹港,序列号扫码后进仓库。中国客户会议上听ASML协调员解释,审批30到60个工作日,成功率看“盟国一致”。9月底,五份许可证拒了三份,全是28纳米模块。
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这禁售的冲击可不小。2024年上半年,中国光刻设备进口超80亿美元,ASML占大头。中国是全球最大半导体消费地,2023年产能利用率85%,靠DUV囤货勉强撑。禁售后,晶圆厂闲置率升到12%,中芯国际公开说优先用库存DUV推14纳米线。
全球看,台积电在亚利桑那多买20% DU V设备补缺。荷兰商会报告,2024年9月ASML本地就业申请降8%,供应商蔡司光学订单滑坡。ASML股价9月7日跌2.4%,收650欧元。中国市场对它营收贡献2023年49亿欧元,占29%;2024上半年升到35%,全靠囤货。现在呢,2025年预测中国订单只占18%。
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日本也跟风,2024年9月经济产业省限尼康高分辨镜头对华出货。美国9月10日更新实体清单,加三家中国光学材料商。全球半导体设备商会9月15日在台北开紧急会,预计2025年亚洲产能利用降3%。ASML 2025年1月报告,中国订单全年预期18%;3月7日宣布北京新维修中心,但只限2023年前设备。
5月荷兰审首季度许可证,批62%。7月10日财报,中国销售占27%,营收还涨12%,靠三星EUV订单。10月15日三季度数据,中国系统销售25%,2.4亿欧元,但维修滑10%。荷兰对华出口整体2025年4月报显示,芯片机订单清库存后直线下滑。
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这套组合拳,美国想把中国摁在7纳米以下,保自己半导体链主导。DUV虽主流,但EUV才指向5纳米以下未来。ASML CEO在2024年12月27日访谈说,美国禁EUV让中国落后西方10-15年。可DUV禁售呢?常规芯片需求最大,中国市场丢了,ASML自己也肉疼。2024年对华销售一度49亿欧元,现在2025年缩水到20%,公司高管10月财报上承认,管制让维修受限,损失数亿。
荷兰首相8月31日表态,经济利益极重要,可还是听了美国的。彭博社报,荷兰可能限ASML售华售后服务,但首相说会顾及ASML利益。结果呢,2025年1月17日,荷兰政府把大部分ASML对华销售排除在“双用”出口披露外,藏着掖着。
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中国这边呢?禁售一出,别无选择,只能咬牙自力更生。国家集成电路产业投资基金2024年9月后加码50亿元,砸向上海微电子装备(SMEE)的28纳米浸没机。SMEE从90纳米起步,2024年实现90纳米批量出货,2025年扩展到28纳米验证,年产能百台。企业团队拆库存设备,逆向光源稳定和镜头算法。2025年1月7日,首台国产28纳米机交付中芯国际,曝光精度38纳米线宽。维修转内部培训,减ASML依赖,确保线跑起来。
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不止SMEE,2025年国产光刻机群星闪耀。8月,AMIES出货第500台步进式光刻机,占国内90%市场份额。这家二月新公司,主攻中低端,填补空白。宇量昇跟中芯国际合作测试,数据良率稳90%以上,成本比ASML低30%。
中芯国际测试国产DUV,国内市场占有从2019年4%升到2023年14%,2025年继续爬。9月24日,上海微电子600系列90纳米量产,28纳米浸没研发中。宇量昇测试是突破信号,成本低、稳定好。
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EUV那边更带劲。2025年第三季度,中国自产EUV机试生产,用激光诱导放电等离子体(LDP)技术,颠覆ASML的激光产生等离子体(LPP)方案。3月,首台LDP样机SMEE-3600在华为东莞厂压力测试。供应链国产化,徐州博康EUV光刻胶、中微半导体刻蚀机,超2000家企业协作。8月25日,3纳米试产进展显著。9月24日,电子束光刻机首秀,商用级,填补高端空白。10月,中国公司展出一堆创新:光刻工具、软件设计、阻剂,全线推进自给。
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可别以为一帆风顺。逆向工程有坑,2025年10月,一中国公司拆ASML DUV后组不回去,找ASML要技术支持,闹出笑话。CSIS9月24日报告说,中国光刻突破多是宣传,实际落后。高盛9月25日调研,中国先进半导体技落后西方20年。
中芯国际7纳米靠N+2重复曝光,65纳米以上国产稳定,28纳米单次曝光还努力。挑战在光源稳、镜头准、曝光台控、维护难。2025到2028年,28纳米浸没DUV量产和良率是关键点。
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中国有完整产业链和上游原料优势,稀土出口控2025年10月15日让ASML备战库存,长交期帮了大忙。ASML三季度报,中国需求2026年暴跌,北京双下本土化。全球看,中国产能扩,SMIC投亿级,国家背书。
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