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案例:多晶硅生产厂含氯硅烷废气处理工程
项目背景
该企业为国内领先的多晶硅生产企业,年产电子级多晶硅1.5万吨。在硅芯制备、化学气相沉积过程中产生大量含氯硅烷的高浓度废气,传统处理方法难以满足环保要求。
废气成分及来源
废气主要成分为:
三氯氢硅(SiHCl₃):占废气总量的60-70%
二氯二氢硅(SiH₂Cl₂):15-20%
四氯化硅(SiCl₄):10-15%
微量氢气(H₂)
废气产生量约3000m³/h,温度80-120℃,SiHCl₃浓度高达8-12%。
处理工艺流程
采用"急冷+水解吸收+深度净化"三级处理系统:
急冷塔
:将高温废气迅速降温至40℃以下,防止氯硅烷自燃。
水解吸收塔
一级水解:控制水气比1:1.2,将SiHCl₃转化为SiO₂和HCl
二级吸收:20%NaOH溶液中和生成的HCl
深度处理系统
文丘里洗涤器进一步去除细微颗粒
纤维除雾器截留气溶胶
盐酸回收系统
:将吸收液浓缩提纯,得到31%工业盐酸。
工艺控制要点:水解温度保持在50±2℃,pH值控制在6.5-7.5。
最终效果
处理后废气中总氯含量<5mg/m³,SiO₂粉尘<10mg/m³,HCl<3mg/m³。系统氯硅烷去除率>99.9%,年回收盐酸2.8万吨,实现废气资源化利用。设备运行能耗较传统工艺降低35%。
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