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案例:半导体封装测试厂有机废水处理改造
项目背景
该工厂主要进行芯片封装测试,因新增电镀生产线导致废水中有机物和镍离子超标。原有活性污泥法无法应对负荷冲击,需针对性改造。
废水成分及来源
主要污染物包括:
电镀废液:含镍离子(20-50mg/L)、络合剂EDTA;
清洗废水:含光刻胶残余物(COD 800-1200mg/L);
地面冲洗水:含油脂和悬浮物。
处理工艺流程
物化处理核心
破络反应池投加次氯酸钠破坏镍-EDTA络合物;
两级沉淀分别用氢氧化钠和硫化钠确保镍离子<0.5mg/L。
生物强化措施
引入水解酸化池提高废水可生化性;
好氧段采用移动床生物膜反应器(MBBR),填料填充率40%。
末端保障措施
超滤系统截留微生物和胶体;
紫外消毒替代传统氯消毒,避免产生消毒副产物。
最终效果
改造后系统抗冲击负荷能力提升3倍,镍离子去除率99.2%,COD去除率从65%提高到88%。每年减少危废污泥处置费用80万元,出水全部达到园区纳管标准。
技术对比与行业启示
通过上述案例可见,半导体废水处理需遵循"分类收集、分质处理"原则:
含氟废水需钙盐沉淀结合絮凝;
重金属废水宜采用螯合沉淀或树脂吸附;
高浓度有机废水推荐"物化+生化+深度氧化"组合工艺。
当前行业趋势显示,膜技术应用比例逐年上升,资源回收型处理方案将成为主流。建议企业优先考虑模块化设计,为后续提标改造预留空间
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