“零到一”突破期望升温 A股光刻机产业链躁动

来源：21世纪经济报道

近期，作为半导体制造最核心环节的光刻机赛道走热，国产产业链相关标的在二级市场热度空前，A股光刻机产业链标的波动，高度吸引着市场的目光。

9月24日，21世纪经济报道记者在上海国家会展中心举办的第二十五届中国国际工业博览会上看到，上海微电子（SMEE）展台上首次公开亮相极紫外（EUV）投影微场曝光装置，及其部分技术内容的对外披露。

行业脉动直接传导至二级市场，叠加近期半导体行业涨价预期不断催化的影响，光刻机概念涨势如虹。

9月24日，光刻机概念龙头张江高科（600895.SH）涨停，股价再创历史新高；同期，江丰电子（300666.SZ）涨超17%，联合化学(301209.SZ)、先锋精科(688605.SH)、洪田股份(603800.SH)、富创精密(688409.SH)涨超5%。

根据张江高科此前互动易披露消息，公司通过子公司上海张江浩成创业投资有限公司投资了上海微电子公司22345万元，持有上海微电子公司10.779%的股权。

江丰电子为光刻工艺的前道工序（沉积）提供关键材料，并为后道工序（刻蚀）等相关设备提供精密零部件。

据其此前年报披露，江丰电子研发的“半导体用多层薄壁钛合金扩散焊接项目”，用于制备28nm以下节点的光刻机核心冷却部件，已进入量产阶段，有望切入光刻机设备核心部件领域。

对于光刻机市场，中航证券研报指出，中国大陆光刻机市场空间广阔，但主要依赖荷兰、日本等地进口。

出口管制阴影下，光刻机供给不确定性上升，走向自主可控已无可回避。

待征服的高地

光刻机决定了半导体加工的最细线宽，通过曝光和光刻胶使晶圆表面产生电路图形，是芯片制造中最复杂的设备。设备的核心包括光源系统、照明系统/投影光学系统以及用于保持晶圆和掩膜运动的双工件台，其中每个系统都由数万个甚至十万多个零件构成。

目前市场上的光刻机主要分为g-line、i-line、KrF、ArF、EUV五代，销售结构以中低端的KrF、i-line为主，ArFi、ArF、EUV占比较小，EUV是全球光刻机的重要发展方向之一。

从全球市场来看，阿斯麦（ASML）独占鳌头，成为唯一的一线供应商，占据全球八成以上的市场；旗下产品覆盖全部级别光刻机，垄断最高端的EUV市场。ASML 2025年二季度财报显示，其净销售额为77亿欧元，环比持平，同比增长23%；净利润为23亿欧元，环比下降约2.8%，同比增长45%。该季度，ASML的光刻机系统销售收入为56亿欧元，其中EUV销售额为27亿欧元，非EUV销售额为29亿欧元；当季售出EUV 11台、DUV 64台。

ASML之外，日本光刻机双雄尼康、佳能的市场份额仅在个位数徘徊。尼康凭多年积累勉守二线，佳能位居第三；两者出货亦以成熟制程设备为主。佳能主要集中在i-line领域，并在技术上押注纳米压印光刻；尼康除EUV外均有涉猎。

与海外龙头相比，国产光刻机整体仍有明显距离。

东兴证券研报指出，光刻机国产化率仅2.5%，上海微电子为国产光刻机绝对龙头。目前，上海微电子是中国第一家也是唯一一家光刻机厂商，出货量占国内市场份额超过80%，产品主要涉及ArF、KrF和i-line领域，已具备90nm及以下的芯片制造能力。

华金证券认为，在产品上，上海微电子对标佳能，皆用于成熟制程，浸没式产品暂未推出。目前，上海微电子已量产光刻机主要有SSX600、SSX500、SSB300、SSB200小Mask、SSB200大Mask等系列。其中，SSX600系列步进扫描投影光刻机采用四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自适应调焦调平技术，以及高速高精的自减振六自由度工件台/掩膜台技术。

“零到一”突破预期升温

由于地缘政治因素，中国大陆的芯片产线无法买到ASML生产的EUV，制程上一直落后于台积电，目前，市场对国产光刻机产业链实现突破的期望在急剧升温。

东兴证券研报指出，目前，中国光刻机制造商在面对技术挑战和供应链问题时，产能和产量仍然受限。

近些年中国光刻机国产化进程加快，产业取得一定发展，但与国际领先水平相比仍存在技术限制，尤其是高端光刻机技术受制于国外供应商，需要上下游同心协力攻坚。

国内光刻机产业链主要包括上游设备及配套材料、中游光刻机系统集成和生产，以及下游光刻机应用三大环节。

华金证券研报显示，光刻机产业链中“卡脖子”环节，技术积累较深或已直接/间接进入ASML/上海微电子等供应链的厂商包括：芯碁微装（688630.SH，直写光刻）、富创精密（零部件）、炬光科技（688167.SH，光学器件）、赛微电子（300456.SZ，物镜）、波长光电（301421.SZ，光源）、奥普光电（002338.SZ，整机）、腾景科技（688195.SH，光学器件）、福晶科技（002222.SZ，光源）、茂莱光学（688502.SH，光源）、电科数字（600850.SH，计算/控制模块）、新莱应材（300260.SZ，零部件）、美埃科技（688376.SH）/蓝英装备（300293.SZ）（洁净设备）、同飞股份（300990.SZ）/海立股份（600619.SH）（温控）、东方嘉盛（002889.SZ，服务）、上海微电子（整机，未上市）、华卓精科（工件台，未上市）。

21世纪经济报道记者梳理发现，目前，我国在光刻机各细分技术领域均有储备。

针对准分子激光光源，科益虹源主要研发248nm准分子激光器、干式193nm准分子激光器等；福晶科技研发KBBF晶体；中科院研发40瓦干式准分子激光光源。针对光学镜头，国望光学研发90nm节点ArF光刻机曝光光学系统、110nm节点KrF光刻机曝光光学系统；中科科仪研发直线式劳埃透镜镀膜装置、纳米聚焦镜镀膜装置等。

需要注意的是，“光刻机”在不同语境下可能指代用于芯片制造的高端光刻机，也可能是用于PCB（印刷电路板）等领域的直写光刻设备（LDI）。

21世纪经济报道记者注意到，近期A股多家上市公司在互动易或公告中披露了自身在光刻机或半导体领域的关联布局。

4月14日，国林科技（300786.SZ）在互动平台表示，目前公司电子级超纯臭氧气体发生器和半导体级高浓度臭氧水系统设备部分型号已取得小批量订单，占主营业务收入比重较小。此前，公司称臭氧在电子工业领域可被广泛用于形成CVD和ALD薄膜、氧化物生长、光刻胶去除和多种清洁应用。

9月18日，南京化纤（600889.SH）公告称，作为南京工艺的唯一股东，将通过调整后的治理结构对南京工艺业务、资产实施有效管控。近年来南京工艺积极拓展高端市场，已在多个高端应用领域取得突破。在半导体领域，南京工艺目前已为光刻机、刻蚀机、封装设备以及晶圆搬运等场合提供配套。

9月19日，波长光电在回答投资者提问中称，公司主营各类光学元件、组件及系统方案，为整机设备、仪器厂家提供配套，部分产品可应用于半导体设备上，但公司暂不掌握终端的具体信息，且目前公司在半导体领域的营收规模较小。对于拓展相关行业的客户群体，基于保密性原则，无法告知具体信息。

9月25日，捷众科技(873690.BJ)披露，公司客户浙江启尔机电专注于高端半导体装备超洁净流控系统及其关键零部件的研发、生产和销售，为光刻机提供超洁净流体处理设备。

需要明确的是，单点技术突破和单个公司的研发仍难以让国产光刻机打开局面。参看ASML发展历史，其与上下游产业链龙头公司紧密合作，产学研深入发展带动了技术革新。

中航证券指出，光刻机作为高壁垒、重资本、高风险的行业，其发展有赖“举国体制”之力，需要国家牵头、科研院所与关键公司参与，方可实现供应链自主可控。而作为国内光刻机发展风向标的上海微电子和几大院所的科技研发成果，尤其值得长期关注。

（作者：彭新 编辑：朱益民）