北京
金融界2025年8月23日消息，国家知识产权局信息显示，信利（仁寿）高端显示科技有限公司申请一项名为“一种高透过率阵列基板制作方法、阵列基板及显示装置”的专利，公开号CN120522921A，申请日期为2025年04月。
专利摘要显示，本发明公开了一种高透过率阵列基板制作方法、阵列基板及显示装置，方法包括：利用掩膜版在玻璃衬底上成膜触控走线层，在触控走线层上成膜第一隔离层；在第一隔离层上成膜栅极金属层，在栅极金属层上成膜栅极绝缘层，并在栅极绝缘层上成膜非晶硅层；利用掩膜版在栅极绝缘层上成膜像素电极层，且像素电极层与非晶硅层分离，非晶硅层上成膜数据线金属层，且像素电极层与数据线金属层搭接；利用掩膜版在数据线金属层上依次成膜第二隔离层，在第二隔离层上成膜公共电极层。通过将触控走线层单独设计，并成膜在数据线金属层的下方，可实现金属线宽不减小的情况下，提高开口率。
天眼查资料显示，信利（仁寿）高端显示科技有限公司，成立于2017年，位于眉山市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本700000万人民币。通过天眼查大数据分析，信利（仁寿）高端显示科技有限公司参与招投标项目261次，专利信息418条，此外企业还拥有行政许可155个。
本文源自：金融界
作者：情报员
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