金融界2025年8月23日消息,国家知识产权局信息显示,信利(仁寿)高端显示科技有限公司申请一项名为“一种高透过率阵列基板制作方法、阵列基板及显示装置”的专利,公开号CN120522921A,申请日期为2025年04月。
专利摘要显示,本发明公开了一种高透过率阵列基板制作方法、阵列基板及显示装置,方法包括:利用掩膜版在玻璃衬底上成膜触控走线层,在触控走线层上成膜第一隔离层;在第一隔离层上成膜栅极金属层,在栅极金属层上成膜栅极绝缘层,并在栅极绝缘层上成膜非晶硅层;利用掩膜版在栅极绝缘层上成膜像素电极层,且像素电极层与非晶硅层分离,非晶硅层上成膜数据线金属层,且像素电极层与数据线金属层搭接;利用掩膜版在数据线金属层上依次成膜第二隔离层,在第二隔离层上成膜公共电极层。通过将触控走线层单独设计,并成膜在数据线金属层的下方,可实现金属线宽不减小的情况下,提高开口率。
天眼查资料显示,信利(仁寿)高端显示科技有限公司,成立于2017年,位于眉山市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本700000万人民币。通过天眼查大数据分析,信利(仁寿)高端显示科技有限公司参与招投标项目261次,专利信息418条,此外企业还拥有行政许可155个。
本文源自:金融界
作者:情报员
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