反转如此之快！大陆光刻机开始围攻，ASML坐不住了

在全球半导体领域中，荷兰ASML被称为全球芯片光刻技术的领导者，因为不仅是我们大陆晶圆厂要用它的光刻机，就连晶圆大厂台积电、三星、英特尔等都离不开它。

主要是光刻机是芯片制造过程中不可缺少的核心设备，荷兰ASML如今又是全球光刻机霸主，占据绝大部分市场份额。不过近日消息传来，大陆光刻机开始全面围攻了！

荷兰ASML到底有多厉害，以至于全球晶圆厂商基本都离不开它呢？大家可以看看下边的这个统计图片，从ASML的2024年的各类光刻机销量和市占率就能明白了。

最先进的EUV光刻机，只有ASML一家能够生产，独家垄断了100%市场份额，晶圆大厂台积电、三星、英特尔想要进行7nm及以下芯片制造，就离不开它的EUV。

再说次高端浸润式DUV光刻机，除了ASML，尼康还能生产，但去年年产量才4台。

还有干式DUV光刻机，尼康才出货7台。而ASML的ArFi和ArF这两类光刻机的市场占比分别达到了96.99%和80%。可以说，ASML基本垄断中高端DUV市场。

不仅传统光刻机领域，ASML在 GAA光刻 、电子束光刻 等新兴技术领域也保持领先。

然而，大家都知道，美方为阻挠我们芯片产业发展，2019年开始就阻挠EUV光刻机对会出货。当时，美方四次向荷兰政府施压，导致中芯国际买的一台EUV未能到货。

之后，美方严格限制EUV光刻机对华出口，甚至连外企在大陆建的晶圆厂也不能购买EUV。2022年开始，美方又扩大光刻机限制范围，进一步限制先进浸润式DUV。

没有ASML的EUV光刻机，我们就不能实现7nm及以下先进制程芯片，即使通过浸润式DUV能做出7nm甚至5nm，因为要多重曝光，会导致良率不高、成本过高。

再说，先进浸润式DUV也被纳入限制范围，所以我们除了自研国产光刻机别无出路。

当然，我们也不会坐以待毙，早就开始布局，近日消息传来，已从三条路线开始突围。

首先是纳米压印光刻技术路线。这方面技术一直以日本佳能较为领先，其最先进的纳米压印光刻设备线宽已达14nm，对应传统5nm制程。不过，这个纪录被中企打破。

近日，国内企业璞璘科技自主设计研发的首台PL-SR系列喷墨步进式纳米压印设备已经交付给国内特色工艺客户产线使用，线宽小于10nm，能用于存储芯片等领域。

其次是电子束光刻技术路线。近日，浙江大学研发团队推出我国首台国产商业电子束光刻机，命名为“羲之”， 精度0.6nm，线宽8nm，用电子束在芯片上刻写电路。

值得一提的是，这个不是停留在PPT上，而是有了成品机，并且已经进入应用测试。

其主要用于制造量子芯片，以及高端芯片前期科研，因为电子束光刻机的优势是精度非常高，能够灵活修改设计无需掩膜版，缺点是效率不高，不适合大规模芯片量产。

再者是传统光刻技术路线。也就是继续研发ASML的传统光刻技术，从i-line到KrF，到干式ArF，到浸润式ArFi，再到EUV。目前，上海微电子就在这个路线上前进。

尽管上海微电子现在跟ASML的差距还很大，但从其官网公布的光刻机可以看出，已经能够做出ArF光刻机，接下来就是ArFi，据说正在攻坚，浸润式DUV也不远了。

接下来还有EUV，上海微电子不是孤军奋战，国内相关产业链都在努力攻坚相关技术。

不过，纳米压印和电子束这两种都有缺点，纳米压印重点用于存储芯片制造，电子束光刻主要用于量子芯片和高端芯片研发，我们还要继续努力，突破国产EUV光刻机。

对此，有外媒直接评价道，ASML快要坐不住了！大陆可是ASML重要出货市场，如今有3种路线开始围攻，并且已取得突破进展，一旦突破EUV，芯片战就结束了。