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金融界2025年8月13日消息，国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“用于产生超连续谱辐射的系统和方法”的专利，公开号CN120476342A，申请日期为2023年12月。
专利摘要显示，一种用于产生超连续谱辐射的系统，该系统包括：泵浦光源，被配置为产生泵浦光脉冲，泵浦光脉冲具有泵浦波长；和中空芯部光子晶体光纤，被配置为接收泵浦光脉冲，中空芯部光子晶体光纤含有气体；其中气体和中空芯部光子晶体光纤被选择为使得泵浦波长在与气体的正常群速度色散状态相对应的范围内；以及其中气体具有以下的任一项：大于0.5THz的转动谱线间距；或没有转动谱线。还描述了一种产生超连续谱辐射的方法。
本文源自：金融界
作者：情报员
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