北京
金融界2025年8月6日消息，国家知识产权局信息显示，上海新毅东半导体科技有限公司取得一项名为“一种光刻机通风气路装置”的专利，授权公告号CN223184244U，申请日期为2024年08月。
专利摘要显示，本申请涉及光刻机通风设备领域，具体涉及一种光刻机通风气路装置，其包括：第一过滤腔，第二过滤腔，第三过滤腔，第四过滤腔以及进风管路；所述进风口通过进风管路将气体通入第一过滤腔、第二过滤腔、第三过滤腔以及第四过滤腔，所述第一过滤腔、第二过滤腔、第三过滤腔均固定于光刻机壳体的内壁顶部端面，所述第四过滤腔固定于光刻机壳体的内壁侧面，其中，所述第一过滤腔以及第三过滤腔分别位于光刻机物镜正上方，所述第二过滤腔位于掩膜台正上方，所述第四过滤腔的出风口正对硅片工作台；在所述第一过滤腔内斜向设置有导流板，导流板采用圆形孔或腰形孔的开孔设计，根据光刻机各分系统散热需求，能够有效平衡空气通过各高效过滤器的流量，达到有效散热的目的，以减小零部件的温度梯度变化从而提高光刻精度。
天眼查资料显示，上海新毅东半导体科技有限公司，成立于2022年，位于上海市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本2000万人民币。通过天眼查大数据分析，上海新毅东半导体科技有限公司参与招投标项目1次，专利信息16条，此外企业还拥有行政许可3个。
本文源自：金融界
作者：情报员
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