北京
金融界2025年8月2日消息，国家知识产权局信息显示，江苏曙光光电有限公司申请一项名为“一种低透过低反射黑膜及其制备方法”的专利，公开号CN120405816A，申请日期为2025年05月。
专利摘要显示，本发明公开一种低透过低反射黑膜及其制备方法，其黑膜包括依次包括吸收层、减反层、保护层；吸收层采用超级黑膜作为薄膜材料，减反层采用超级黑膜作为高折射率薄膜材料，用二氧化硅作为低折射率薄膜材料；其制备方法中，当腔室真空度达到2.0×10‑3Pa时，离子源启动镀膜开始，刻蚀离子源能量设置为放电电流30A～50A，为偏压100V～150V，氩气流量为10～15sccm。与现有技术相比，本发明通过设计新的薄膜结构，创新优化镀制方法和工艺，实现低透过低反射黑膜的宽带光谱的设计要求，提高膜层机械强度、耐摩擦能力、耐酸碱腐蚀能力、抗环境损伤能力，拓宽了该类产品使用范围，提升了整个光学系统可靠性和稳定性，解决了低透过低反射黑膜的行业生产难题。
天眼查资料显示，江苏曙光光电有限公司，成立于1989年，位于扬州市，是一家以从事仪器仪表制造业为主的企业。企业注册资本50000万人民币。通过天眼查大数据分析，江苏曙光光电有限公司共对外投资了8家企业，参与招投标项目3192次，财产线索方面有商标信息2条，专利信息17条，此外企业还拥有行政许可50个。
本文源自：金融界
作者：情报员
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