北京
金融界2025年7月29日消息，国家知识产权局信息显示，深圳市TCL高新技术开发有限公司申请一项名为“薄膜的制备方法、光电器件以及电子设备”的专利，公开号 CN120390564A，申请日期为 2024年01月。
专利摘要显示，本申请公开一种薄膜的制备方法、光电器件以及电子设备，所述薄膜的制备方法包括步骤：提供包括待成膜区域，待成膜区域由中心区域和边缘区域组成，边缘区域围设于中心区域的周围；以及，在具有电场和/或磁场的环境下，向待成膜区域施加包括功能材料的溶液，施加于待成膜区域的功能材料朝向中心区域移动和/或沉积于中心区域，获得薄膜，其中，功能材料携带正电荷或负电荷，提高了成膜的均匀性，使得制得的薄膜具有良好的厚度均匀性；所述薄膜的制备方法能够应用于制备光电器件的功能层，有利于提升光电器件的光电性能和器件寿命。
天眼查资料显示，深圳市TCL高新技术开发有限公司，成立于2008年，位于深圳市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本2000万人民币。通过天眼查大数据分析，深圳市TCL高新技术开发有限公司共对外投资了5家企业，参与招投标项目1次，财产线索方面有商标信息5条，专利信息132条，此外企业还拥有行政许可7个。
本文源自：金融界
作者：情报员
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