导读:出手就是3440亿!全力冲刺光刻技术,日媒惊呼:ASML地位不保
“能造出自己的阿斯麦(ASML)吗?”
近日,《日经亚洲》报道称,正全力冲刺光刻技术,一边豪掷744亿元囤积ASML设备,为突破争取时间;一边投入3440亿元专项资金,推动全链“自主化”。该报道明确指出,研发的目标不仅是弥补技术短板,更是取代ASML,成为光刻设备领域的主导者。
日媒援引当地供应商高管的观点发出警告:一旦取得突破,日荷企业只能喝西北风!
01 三巨头垄断,国产举步维艰
“美方的制裁,为半导体产业创造了黄金时代”,《日经亚洲》在报道中断言。
光刻设备是制造的“纳米刻刀”,通过极紫外光(EUV)或深紫外光(DUV)在硅片刻蚀精度达头发丝万分之一的电路。它决定了手机算力、AI性能乃至卫星导航精度的上限,是科技命脉的核心。
然而,全球市场被荷兰ASML、日本尼康和佳能三巨头垄断,其中ASML更凭借独家EUV技术,独占82%的份额。
截至2022年,已实现了中低端光刻技术的替代。美方将此视为对其科技霸权的挑战,2023年起联合日本、荷兰升级封锁,全面禁售14nm以下先进制程设备,叫停已售设备的维修服务,使圆晶厂陷入“买不到、修不了、造不出”的困境。
令美西方始料未及的是,封锁反成尖端科技的助燃剂。现如今,设备产业已形成明确分工:不仅专注EUV整机集成,还攻坚刻蚀设备,并突破薄膜沉积。短短三年间,设备国自主化率从不足20%飙升至45%。
经此一役,ASML订单暴跌37%,日本光刻胶巨头因失去定价权陷入两难——既想配合美方封锁,又怕彻底丢掉市场。
他们这才明白,甘蔗没有两头甜。
02 越封锁,越出成果
美半导体专家Meghan Harris表示:西方对本土制造能力,一无所知。
有了3440亿专项资金的投入后,已初步涌现出(14nm良率达92%)、(192层闪存全球市占19%)、(28nm光刻机量产32台)等具有国际竞争力的企业,在蚀刻、测量、沉积等关键工艺实现突破。
在美方极限施压下,中企始终展现出强大的创新能力和市场适应性。也难怪ASML CEO会公开表达对美的不满:过度制裁只会激发他们研发决心!
03 光刻机领域,迎来有力竞争者
光刻技术的自主研发,正在半导体市场掀起连锁反应。
尼康将年度利润预期下调50%,佳能光刻机订单量骤降40%,日本住友电木等材料商甚至紧急设厂,试图通过本土化生产维持份额。ASML也难逃冲击,其年度营收预期下调50亿欧元,CEO无奈表示:真的不买了。
西方筑起的技术高墙,正在创新的浪潮中崩塌。日媒断言,光刻设备为代表的制造技术固然困难,但已经展现出空前的决心来做这件事——他们总有一天会成为行业的关键玩家,成为ASML最强大的对手。
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