北京
金融界2025年7月22日消息，国家知识产权局信息显示，沈阳国仪检测技术有限公司申请一项名为“一种中子源检测膜片残余应力及缺陷装置及方法”的专利，公开号CN120352063A，申请日期为2025年05月。
专利摘要显示，本申请提供一种中子源检测膜片残余应力及缺陷装置和方法。装置包括中子源、中子探测器、膜片固定组件和控制台，通过中子衍射技术无损检测膜片的残余应力及缺陷。通过膜片固定组件固定膜片，调节中子源的中子束流，使中子束流完全覆盖膜片；通过膜片固定组件调整膜片角度，重复记录稳定衍射信号，得到多组应变数据，分析处理生成残余应力云图及缺陷分布结果。本方案通过中子衍射技术实现了对待测膜片残余应力及缺陷精确检测，具有无损检测的优点，避免了对膜片的损伤，适用于各种膜片材料的检测，且测量精确、操作简便，且降低了人为操作误差，同时利用云计算和大数据技术对数据进行进一步的分析和处理，提高了检测的准确性和效率。
天眼查资料显示，沈阳国仪检测技术有限公司，成立于2018年，位于沈阳市，是一家以从事专业技术服务业为主的企业。企业注册资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析，沈阳国仪检测技术有限公司参与招投标项目15次，专利信息31条，此外企业还拥有行政许可11个。
本文源自：金融界
作者：情报员
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
