北京
金融界2025年6月17日消息，国家知识产权局信息显示，新思科技有限公司申请一项名为“用于极紫外光刻的掩模拼接”的专利，公开号CN120161666A，申请日期为2024年12月。
专利摘要显示，本公开涉及用于极紫外光刻的掩模拼接。基于半导体电路布局的掩模图案的在所述掩模图案中的边界的阈值距离内的特征而确定所述掩模图案内的第一位置。所述掩模图案基于在所述边界处交汇的第一次掩模曝光及第二次掩模曝光。所述第一位置界定要放置第一辅助特征的位置，所述第一辅助特征降低所述掩模图案的所述特征对光刻过程变化的敏感度。还确定所述掩模图案的第二位置。所述第二位置界定要放置第二辅助特征的位置，所述第二辅助特征在所述第一次掩模曝光及所述第二次掩模曝光期间减少所述边界处的杂散光。然后修改所述掩模图案以将所述第一辅助特征放置在所述第一位置中且将所述第二辅助特征放置在所述第二位置中。
天眼查资料显示，新思科技有限公司，成立于2017年，位于南京市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本3500万美元。通过天眼查大数据分析，新思科技有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目11次，专利信息153条，此外企业还拥有行政许可3个。
本文源自：金融界
作者：情报员
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