北京
金融界2025年6月3日消息，国家知识产权局信息显示，武汉光谷航天三江激光产业技术研究院有限公司申请一项名为“梯级变压式微通道散热结构及高功率激光器截止光阑”的专利，公开号CN120090032A，申请日期为2024年12月。
专利摘要显示，本发明公开了一种梯级变压式微通道散热结构及高功率激光器截止光阑，结构包括流道(3)、渐阔型微通道(4)以及第一梯级变压结构(5)和第二梯级变压结构(6)；第一梯级变压结构(5)和第二梯级变压结构(6)包括多级椭圆形柱体阵列，所述椭圆柱体数量逐级递增，椭圆短轴长度逐级递减，流体流通截面积逐级递减，流动速度逐级增大形成射流效应将流体加速，最终流体以一个更高的流速进入所述渐阔型微通道(4)实现流动换热。本发明在微通道入口段设计椭圆形柱体个数逐级递增、短轴长度逐级递减、总流通截面逐级递减的梯级变压结构，能够迅速梯度增压加速流体，有效解决微通道入口压力过大且集中的问题。
天眼查资料显示，武汉光谷航天三江激光产业技术研究院有限公司，成立于2014年，位于武汉市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本75000万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉光谷航天三江激光产业技术研究院有限公司共对外投资了3家企业，参与招投标项目205次，专利信息263条，此外企业还拥有行政许可34个。
本文源自：金融界
作者：情报员
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