央视首次曝光！每台4亿美元重180吨，全世界最先进光刻机揭开面纱

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每台4亿美元，重达180吨，全球最先进的光刻机终于揭开神秘面纱！

2025年5月27日，央视的镜头对准了一个庞然大物，它就是目前全球最先进的光刻机：High-NA EUV极紫外光刻机。

这台需要拆解成250个独立货箱、动用7架波音747运输的巨型光刻机，引得世界众多芯片制造商“竞折腰”，虽然一个个争前恐后的订购，但也只有三家顶尖芯片制造商捷足先登。

央视在此时报道在这台全球首屈一指的光刻机，到底有什么深意？这台光刻机又有什么过人之处？

世界最先进的光刻机

光刻机被称为“半导体工业皇冠上的明珠”，要想在芯片产业拔得头筹，先进的光刻机必不可少，而极紫外光又是芯片制造的“先锋技术”。

这台价值4亿美元的设备，通过波长仅13.5纳米的极紫外光，将电路图案投射到硅晶圆上，指甲盖大小的芯片空间里，需要精确“雕刻”上百亿个晶体管，每个晶体管尺寸仅相当于病毒大小的千分之一。

这种精度要求，普通光源根本无法实现。

为了实现这种极致精度，科学家们研发出每秒钟数万次激光轰击液态锡靶的技术，激发出极紫外光。由于这种光连空气都能吸收，整个光刻过程必须在真空环境中进行，如同在太空中完成芯片制造的“显微手术”。

有趣的是，即便拥有这样的先进技术，全球芯片巨头们却表现得异常谨慎。

目前全球仅交付五台High-NA EUV光刻机，英特尔、台积电和三星三大巨头各有所获，而当被问及是否在下一代A14制程中采用该技术时，台积电技术负责人坦言：

“尚未找到足够理由证明这笔巨额投资的必要性。”

在此之外，每台设备近4亿美元的天价，已经是传统设备的两倍有余，这让财大气粗的芯片巨头也必须精算成本效益。

在荷兰计划生产的5台设备中，分别落户于三大芯片巨头，他们分别是英特尔、台积电和三星。

这一反常分配背后，也体现了美国希望重夺芯片制造主导权的直接干预，而央视此时报道这道设备，背后深意也不言而喻。

大国间的芯片竞赛

如今，光刻机俨然已成为大国科技竞争的核心战场。

由于技术门槛极高，全球能生产EUV光刻机的企业仅有ASML一家，形成绝对的垄断，而美国政府近年来多次施压荷兰，限制ASML向中国出口EUV光刻机。

2025年初的政策收紧，直接导致ASML股价暴跌13%，芯片股普遍下挫，全球半导体市场随之震荡，面对技术封锁，中国光刻机产业链正在悄然突破。

除此之外，央视报道中还特别聚焦国产光刻技术进展：

上海微电子已成为国内唯一能生产高端前道光刻机的整机厂商，其90纳米光刻机已实现量产应用，28纳米技术进入最后冲刺阶段，在功率半导体、模拟芯片等特定领域，国产设备已经支撑起实际生产线运转。

在关键材料领域，晶瑞电材成功研发7纳米制程用光刻胶，南大光电的ArF光刻胶通过客户认证。

2025年3月，中科院宣布全固态深紫外光源技术取得突破，摒弃传统气体激光方式，采用Yb：YAG晶体放大器生成激光，使设备体积缩小30%、能耗降低50%，理论上可支持3纳米芯片制造。

早在2020年，我国就出台了《新时期促进集成电路产业高质量发展的若干政策》，明确支持本土芯片产业链发展。

央视此次高调展示全球最先进光刻机，既是对产业现状的科普，更是对自主创新的鞭策。

当我们把视野放得更宽，半导体史上的技术封锁往往成为创新的催化剂，1970年代，日本通产省组织日立、三菱等五大企业联合攻关DRAM技术，最终打破美国垄断。

21世纪初中国高铁技术引进时，西门子开出天价技术转让费，反而促使中国自主研发出“复兴号”动车组。历史反复证明：技术封锁只会加速自主创新。

ASML首席执行官Peter Wennink曾坦言：

“阻碍中国的发展是最错误的选择，因为中国总能找到突破的方法。”

当中科院固态光源技术将光刻设备体积缩小30%，当上海微电子的封装光刻机进入产线，央视镜头下的这台4亿美元“巨兽”，更像是半导体进化史上的一个坐标点。

封锁技术并不会让中国止步不前，反而让我们昂首阔步走在自主创新的道路上，当央视聚焦在全世界最先进的光刻机上，也是让我们清醒地意识到差距，并且坚定不移走在发展的道路上。

信息来源：
1.央视网2025.05.27《[今日亚洲]造价超4亿美元！最先进光刻机公开》
2.央视新闻2025.05.21《美国企图全球禁用中国先进计算芯片 商务部回应》