北京
金融界2025年5月13日消息，国家知识产权局信息显示，北京华丞电子有限公司申请一项名为“气嘴组件及吹扫装置”的专利，公开号CN119965121A，申请日期为2025年1月。
专利摘要显示，本发明涉及半导体工艺技术领域，尤其涉及一种气嘴组件及吹扫装置。气嘴组件包括气嘴和基座，基座具有气道，气道连通有进气孔和出气孔，出气孔密封连接于气嘴；气道内设有稳流板，稳流板的迎风面与气道的长度延伸方向呈角度设置，稳流板具有稳流通孔；沿长度延伸方向，进气孔与相邻稳流通孔交错设置。吹扫装置包括气嘴组件，气嘴组件固设于晶圆装载设备平台。该气嘴组件及吹扫装置，能够实现匀气功能，使吹扫气体进行均匀化及稳流，保证吹入至晶圆传送盒内的吹扫气体的均匀化和稳定性，进而减少甚至避免对晶圆产生冲击，保证晶圆良率。
天眼查资料显示，北京华丞电子有限公司，成立于2017年，位于北京市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本2090.584311万人民币。通过天眼查大数据分析，北京华丞电子有限公司共对外投资了4家企业，参与招投标项目123次，财产线索方面有商标信息21条，专利信息207条，此外企业还拥有行政许可42个。
本文源自：金融界
作者：情报员
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