北京
分享至
金融界 2025 年 5 月 12 日消息，国家知识产权局信息显示，卡尔蔡司 SMT 有限责任公司申请一项名为“分面镜、照明光学单元、分面镜的布置、投射曝光设备以及用于生产纳米结构部件的方法”的专利，公开号 CN119968594A，申请日期为 2023 年 9 月。
专利摘要显示，在微光刻投射曝光设备(1)中，照明光学单元(4)的第二分面镜(14)布置在晶片平面(9)的区域中，特别是布置在晶片平面(9)下方。
本文源自：金融界
作者：情报员
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
