北京
金融界 2025 年 5 月 12 日消息，国家知识产权局信息显示，拉普拉斯（广州）半导体科技有限公司取得一项名为“检测气路、供气系统与反应炉系统”的专利，授权公告号 CN222850585U，申请日期为 2024 年 7 月。
专利摘要显示，本实用新型公开了一种检测气路、供气系统与反应炉系统，检测气路包括至少一条第一检测管和至少一条第二检测管；第一检测管具有第一管口，第二检测管具有第二管口；第一检测管的第一端与第二检测管的第一端相对设置，第一管口与所述第二管口位于所述反应腔内的不同位置，第一检测管的第二端与第二检测管的第二端分别连接气体分析仪，更加准确地反映反应腔内的气体含量。供气系统包括供气管路以及上述的检测气路，供气管路与检测气路连接反应炉；反应炉系统包括反应炉与上述的供气系统，供气系统连接上述反应炉，能够通过供气系统的检测气路精确反映反应炉内气体的含量，且能够通过供气系统的供气管路精准调控向反应炉供应气体的含量。
天眼查资料显示，拉普拉斯（广州）半导体科技有限公司，成立于2021年，位于广州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本500万人民币。通过天眼查大数据分析，拉普拉斯（广州）半导体科技有限公司参与招投标项目2次，专利信息64条，此外企业还拥有行政许可4个。
本文源自：金融界
作者：情报员
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