北京
金融界 2025 年 5 月 8 日消息，国家知识产权局信息显示，武汉华彩光电有限公司申请一项名为“一种 PCB 光阻用碱溶性树脂制备方法”的专利，公开号 CN119930934A，申请日期为 2025 年 1 月。
专利摘要显示，本发明涉及 PCB 光阻材料技术领域，尤其为一种 PCB 光阻用碱溶性树脂制备方法，准备原料，单体原料：甲基丙烯酸、苯乙烯、丙烯酸羟乙酯和马来酸酐‑全氟烷基乙烯基醚共聚物，引发剂：过氧化苯甲酰和偶氮二异丁腈，链转移剂：十二烷基硫醇，交联助剂：N‑羟甲基丙烯酰胺和受阻胺光稳定剂，溶剂：甲苯与丙酮混合的溶剂，单体原料通过减压蒸馏去除杂质和水分。该 PCB 光阻用碱溶性树脂制备方法，碱溶性树脂利用活性自由基聚合技术，使得碱溶性树脂能够精确控制树脂的分子量和分子量分布，使得碱溶性树脂的碱溶性更强，溶解速率更高，能够迅速且完全地溶解，极大地提高了 PCB 光阻制造过程中的显影效率和精度，从而提高了光刻图案的质量和稳定性。
天眼查资料显示，武汉华彩光电有限公司，成立于2018年，位于武汉市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本3150万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉华彩光电有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目13次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息32条，此外企业还拥有行政许可11个。
本文源自：金融界
作者：情报员
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