金融界2025年5月7日消息,国家知识产权局信息显示,沈阳拓达真空设备有限公司取得一项名为“一种真空静态浇注设备的浇注嘴”的专利,授权公告号CN222819389U,申请日期为2024年6月。
专利摘要显示,本实用新型涉及一种真空静态浇注设备的浇注嘴,其结构为:在气缸固定座上固定连接气缸,气缸的底部的活塞杆连接下料移动轴,下料移动轴的中心设有通孔,通孔的上端连通径向的进料接头;在通孔的下端设有竖直的出料口,出料口处设有向上弹性动作的挡料块,挡料块的底面与出料口接触;挡料块在密封状态下,其底面的中心低于出料口底面,当下料移动轴下移到极限位置时,挡料块与外部浇注设备的限位块接触。该浇注嘴采用弹簧压力结构进行密封,不仅密封性能好,而且下料流畅,不会因上提过程中的压力变化而导致料液泄露的问题。
天眼查资料显示,沈阳拓达真空设备有限公司,成立于2006年,位于沈阳市,是一家以从事通用设备制造业为主的企业。企业注册资本1100万人民币。通过天眼查大数据分析,沈阳拓达真空设备有限公司参与招投标项目8次,专利信息20条,此外企业还拥有行政许可4个。
本文源自:金融界
作者:情报员
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