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金融界2025年5月7日消息，国家知识产权局信息显示，沈阳拓达真空设备有限公司取得一项名为“一种真空静态浇注设备的浇注嘴”的专利，授权公告号CN222819389U，申请日期为2024年6月。
专利摘要显示，本实用新型涉及一种真空静态浇注设备的浇注嘴，其结构为：在气缸固定座上固定连接气缸，气缸的底部的活塞杆连接下料移动轴，下料移动轴的中心设有通孔，通孔的上端连通径向的进料接头；在通孔的下端设有竖直的出料口，出料口处设有向上弹性动作的挡料块，挡料块的底面与出料口接触；挡料块在密封状态下，其底面的中心低于出料口底面，当下料移动轴下移到极限位置时，挡料块与外部浇注设备的限位块接触。该浇注嘴采用弹簧压力结构进行密封，不仅密封性能好，而且下料流畅，不会因上提过程中的压力变化而导致料液泄露的问题。
天眼查资料显示，沈阳拓达真空设备有限公司，成立于2006年，位于沈阳市，是一家以从事通用设备制造业为主的企业。企业注册资本1100万人民币。通过天眼查大数据分析，沈阳拓达真空设备有限公司参与招投标项目8次，专利信息20条，此外企业还拥有行政许可4个。
本文源自：金融界
作者：情报员
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