北京
金融界2025年4月9日消息，国家知识产权局信息显示，武汉华中旷腾光学科技有限公司申请一项名为“一种用于室温磁制冷的镧铁硅基合金及其制备方法”的专利，公开号 CN 119776724 A ，申请日期为 2024年12月。
专利摘要显示，本发明公开了一种用于室温磁制冷的镧铁硅基合金，其化学通式为La1+xFe11Co0.9Si1.1,其中x=0.2～0.8；制备步骤是先以La、Fe、Co、Si单质粉为起始原料，在保护气氛下经过机械合金化固相反应得到前驱体粉末，再经放电等离子烧结得到块体合金，最后封装于绝氧条件下的石英管中，再进行退火和淬火处理得到镧铁硅基合金。根据本发明的制备方法合成的镧铁硅基合金造价低廉、生产周期短、工艺简单，在室温磁制冷领域有大规模应用的潜力。
天眼查资料显示，武汉华中旷腾光学科技有限公司，成立于2010年，位于武汉市，是一家以从事商务服务业为主的企业。企业注册资本4500万人民币，实缴资本4500万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉华中旷腾光学科技有限公司共对外投资了4家企业，参与招投标项目610次，财产线索方面有商标信息11条，专利信息52条，此外企业还拥有行政许可3个。
本文源自：金融界
作者：情报员
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