北京
金融界2025年1月21日消息，国家知识产权局信息显示，湖南普照信息材料有限公司申请一项名为“一种减少膜层针孔的方法、膜层以及光掩模基板”的专利，公开号CN 119265525 A，申请日期为2024年8月。
专利摘要显示，本发明公开了一种减少膜层针孔的方法、膜层以及光掩模基板。其案减少膜层针孔的方法包括采用特定工艺气体布气方式的磁控溅射工艺形成亮铬层和在亮铬层上形成氧化层等步骤，有严格的工艺参数控制还包括对溅射腔体等的前处理步骤从而使膜层性能提升，避免产品出现断线、凹陷、白缺陷、锯齿边等不良的产生，提高了膜层形成质量。特别是通过控制亮铬层中CO2使用占比，大幅度降低了亮铬层颗粒的产生，且避免表面出现整板颗粒异常。由该方法产生的膜层具有低反射率、耐酸碱、抗腐蚀及均匀等特性，具有该膜层的光掩膜基板提升了产品质量和性能，避免了因针孔导致的薄膜漏光及产品曝光显影不良等情况，提高了光掩模基板的良品率和质量可靠性。
天眼查资料显示，湖南普照信息材料有限公司，成立于2003年，位于长沙市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本49934.5582万人民币，实缴资本10596.53万人民币。通过天眼查大数据分析，湖南普照信息材料有限公司参与招投标项目403次，专利信息56条，此外企业还拥有行政许可17个。
本文源自：金融界
作者：情报员
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