1月9日
中微半导体设备（上海）股份有限公司和南昌中微半导体设备有限公司共同拥有的发明专利“一种化学气相沉积装置及其清洁方法”（专利号：ZL201510218357.1）荣获第二十五届中国专利奖银奖。
中国专利奖是我国专利领域的最高荣誉，由国家知识产权局和世界知识产权组织联合主办，旨在鼓励和表彰专利权人和发明人对技术创新及经济社会发展所作出的突出贡献。
至此
中微公司已荣获
中国专利奖
2项金奖
1项银奖
3项优秀奖
本次获奖的发明专利是中微公司MOCVD设备产品的基础核心专利。MOCVD设备是宽禁带半导体各种微观器件制造的最关键设备，具有广阔的应用前景。中微公司的MOCVD设备在业界享有盛誉，其氮化镓基LED生产用MOCVD设备的市场占有率在过去几年内跃居全球第一，市场占有率超过70%。
这项获奖专利通过一种构思新颖的设计，巧妙解决了MOCVD设备领域一直困扰的排气不均匀、工艺良率低、维护频繁和生产效率低等业界难题。这一突破性的技术，为客户提供了更可靠、更高效的生产解决方案，有力推动了MOCVD设备的技术进步，促进了LED照明与显示产业的新发展。这一创新成果进一步巩固了中微公司在MOCVD设备市场的领先地位。
“中微公司连续斩获中国专利奖，彰显了中微公司在研发创新和知识产权管理方面的领先地位。”中微公司董事长兼总经理尹志尧博士表示，“创新是中微公司发展的核心驱动力。中微公司将始终秉承技术创新、产品差异化和知识产权保护的产品开发原则，强化研发投入，不断突破技术瓶颈，为客户提供更具创新性和卓越品质的产品和服务，为全球半导体产业的发展贡献更大的力量。”
中微半导体设备（上海）股份有限公司
中微半导体设备（上海）股份有限公司（证券简称：中微公司，证券代码：688012）致力于为全球集成电路和LED芯片制造商提供领先的加工设备和工艺技术解决方案。中微公司开发的CCP高能等离子体和ICP低能等离子体刻蚀两大类，包括十几种细分刻蚀设备已可以覆盖大多数刻蚀的应用。中微公司的等离子体刻蚀设备已被广泛应用于国内和国际一线客户，从65纳米到5纳米及更先进工艺的众多刻蚀应用。中微公司最近十年着重开发多种导体和半导体化学薄膜设备，如MOCVD，LPCVD，ALD和EPI设备，并取得了可喜的进步。中微公司开发的用于LED和功率器件外延片生产的MOCVD设备早已在客户生产线上投入量产，并在全球氮化镓基LED MOCVD设备市场占据领先地位。此外，中微公司也在布局光学和电子束量检测设备，并开发多种泛半导体微观加工设备。这些设备都是制造各种微观器件的关键设备，可加工和检测微米级和纳米级的各种器件。这些微观器件是现代数码产业的基础，它们正在改变人类的生产方式和生活方式。在美国TechInsights（原VLSI Research）近五年的全球半导体设备客户满意度调查中，中微公司三次获得总评分第三，薄膜设备三次被评为第一。
南昌中微半导体设备有限公司
2017年12月，中微公司入驻南昌高新区，成立全资子公司南昌中微半导体设备有限公司（简称“南昌中微”）。南昌中微是国家高新技术企业，主要产品包括用于LED和功率器件外延片生产的MOCVD设备。南昌中微于2018年规模生产MOCVD设备，实现了拥有自主知识产权的MOCVD设备在南昌本地制造，构建了南昌市LED完整产业链的重要一环。
来源：综合中微公司
编辑：梅欣
审核：邱垚
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