曾断供韩国，全世界90%都是日本生产，一旦断供中国该如何应对？

12月10日，我国海关署发布的新数据，中国芯片出口达到1.03万亿元，代表着国内的芯片行业到达新的里程碑。

要知道，现如今半导体行业发展依旧是全球的主要发展趋势，中国芯片起步虽然较晚，但经过全社会的努力已经取得非常显著的成绩。

而美国并不愿意看到中国芯片行业崛起，“中国芯”在萌芽阶段接就遭受美国打压。

中国制作的芯片

美国为了进一步制裁，多次联合其他国家限制制作芯片的关键材料对华出口，日本光刻胶就在限制清单中。

值得注意的是，光刻胶是半导体工艺中不可或缺的重要材料，而日本企业制作的光刻胶最高占据全球市场90%的份额，尤其是高端的ArF和EUV光刻胶领域。

这一数据也充分说明日本光刻胶完全有能领垄断市场的能力。

若是日本未来直接断供光刻胶，中国半导体行业会受到影响吗？其他国家无法生产光刻胶吗？

芯片制作中

日本光刻胶垄断

众所周知的事情，光刻机对于半导体行业的发展有着举足轻重的地位，若是想要研发高端芯片，先进的光刻机是不可或缺的。

而世界上又只有荷兰阿斯麦公司有能力研发高端先进的光刻机。

刻画芯片

这也就代表着全球的光刻机直接被阿斯麦垄断，一旦出现断供，就会影响整个芯片行业的发展进度。

光刻胶也是如此，是半导体行业进程中的必备关键材料。

取材网络

据悉，光刻胶是一种感光材料，被用于芯片制造的光刻阶段，其工作原理和照相机胶卷曝光十分相似。

在芯片制作的过程中，会在晶圆上涂上光刻胶，在掩膜版上绘制好电路图。

当光线透过掩膜板照射到光刻胶上会发生曝光，之后经过一系列的处理，晶圆上就会被留下所需要的电路图。

光刻胶构成图

其实通俗来讲，光刻胶的作用就是来保护电路板等各种关键材料，在生产的过程中不会受到外界损害。

正是这种高精度的制作技术，才能让现代高端芯片实现高复杂度和高集成度，极大程度提高生产效率。

光刻工艺流程

也就是说，光刻胶在芯片发展过程中和光刻机有着同等重要的地位，如果缺少这一材料，半导体行业的发展很难得到新的进展。

然而，全球生产光刻胶的国家屈指可数，市面上能够使用的光刻胶，70%-90%的份额都是日本企业生产的。

尤其是高端芯片制作过程中用到的光刻胶，日本企业的市场占率甚至直接超过90%。

中国电子报2024-05-16，日本光刻胶市场地位：是否真的坚不可摧？

这就代表着，日本凭借光刻胶市场高份额的优势在全球半导体行业有着绝对的话语权，就像荷兰光刻机巨头阿斯麦一样。

其实曾经日本的半导体行业在全世界并没有如此绝对的话语权，其国家的企业经过产业垂直整合，完全从依赖外部技术到自主研发的转变。

芯片使用

而日本企业会在短时间巩固在全球半导体材料供应链中的核心位置，其中部分原因是因为其国内企业做到对新兴市场和技术趋势的快速反应。

现在的日本也知晓其国家凭借生产光刻胶得到了全球认可。

科研团队研发中

掌握主动权的日本不知道出于何种缘由，日本政府曾经多次发布限制光刻胶等半导体材料出口的公告。

曾经的韩国就因为日本发布的“限制令”，导致其国家的芯片行业发展停滞4年，直到2023年初才重新恢复对韩出口光刻胶等制作芯片的三种关键材料。

使用光刻胶

日本除了对韩国发布的“限制令”之外，还有多个国家“深受其害”，主要原因就是日本限制光刻胶、氟化氢等关键材料出口。

基于这一种情况，也直接引发网友深思，日本如此随便的限制制作芯片关键材料出口，若是未来日本限制对中国光刻胶的出口，中国的半导体行业会不会被影响？

观察者网2024-09-11，日媒调查：日企主导光刻胶市场，垄断光掩膜份额

日本光刻胶垄断并非牢不可破

据悉，曾经有网友猜测，日本政府为了把光刻胶产业“国有化”，收购日本光刻胶制造商JSR。

要知道收购总额464.2亿元中有数十亿都是净有息负债。

原本全球芯片行业的发展都是通过世界各国合作才不断取得优异的成绩，各自在擅长的领域不断得到新的攀升，最后经过整合就会生产出更加高端的产品。

南大光电的光刻胶

日本几乎垄断全球光刻胶的现象很是少见，这也直接让不少国家开始担忧日本断供问题。

此前日本多次限制光刻胶等关键材料出口，随后又任性的抬高价格，日本政府一系列的举动都不得不让全球各国开始提早做打算，避免陷入没有光刻胶用的地步。

光刻胶类型划分

我国同样如此，芯片发展的起步相对于欧美国家的起步较晚，最初都是依赖进口材料。

而这一做法也就直接导致中国的芯片发展备受限制，荷兰阿斯麦光刻机不对华出口高端的光刻机就是最直接的例子。

科研人员研发

在这样的情况下，中国自主研发芯片发展所需要的材料就显得非常必要。

此后中国的相关科技公司一直加大研发力度，光刻胶也就成为未来发展的重点项目之一。

芯片制作中

今年10月15日，中国光谷宣布重大科技成果，武汉太子微光电科技公司率先合成光刻胶所需要的原料和配方，量产不成问题。

太子微光的负责人称，此次是我国首次攻克光刻胶所需要的原料和配方，这一步骤对改变集成电路领域研究有着重大意义。

湖北日报2024-10-16，光谷攻克芯片光刻胶关键技术

同时，该型号的光刻胶和全球其他同系列的产品相比较，性能更加突出且稳定，极限分辨率能够达到120纳米。

这也就代表着中国未来的芯片行业不会到“无胶”可用的地步，不会因为日本的断供让芯片行业的发展停滞。

中国自主研发芯片

结语

日本的光刻胶在全球几乎处于垄断位置，一旦日本宣布断供，将会直接造成许多国家的芯片发展面临停滞。

此前中国也面临同样的问题，在芯片发展方面受到许多限制，许多关键材料都是依赖进口。

芯片制作

但现在中国科技公司宣布已经攻破光刻胶所需要的预料和配方，这也就代表着未来中国芯片行业所需要的光刻胶将摆脱依赖进口的局面。

相信未来中国将会实现新的突破，让中国的芯片发展更进一步。