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金融界2024年10月31日消息，国家知识产权局信息显示，中芯国际集成电路制造(上海)有限公司申请一项名为“图形修正方法、存储介质和终端”的专利，公开号CN 118838120 A，申请日期为2023年4月。
专利摘要显示，一种图形修正方法、存储介质和终端，方法包括：提供第一待修正版版图；成对应各第一待修正图形的若干辅助图形；对第一待修正版图进行第一光学邻近效应修正获取第二待修正版图，第二待修正版图包括若干第二待修正图形；对第二待修正版图进行第一模拟曝光，获取若干个第一模拟曝光版图，若干个第一模拟曝光图形的轮廓构成曝光带；根据曝光带在各个位置的宽度，获取第二待修正图形的弱点区域；获取弱点区域周围的目标辅助图形，并对目标辅助图形进行修正，直至弱点区域对应的曝光带的宽度满足预设范围，获取对应目标辅助图形的修正辅助图形；基于修正辅助图形和辅助图形，对第二待修正版图进行修正，获取修正版图。所述修正方法的精准度提升。
本文源自：金融界
作者：情报员
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