下一代高分辨率 EUV 光刻需要对光刻掩模进行可靠表征和缺陷检查的工具。
理想情况下,检查使用与光刻过程中使用的相同类型的辐射和波长。瑞士 PSI 的研究人员展示了使用 13.5 nm 相干单色 EUV 光束在光刻掩模上进行相干衍射成像以进行缺陷检查。新的、更先进的图像处理算法被应用于真空CCD相机中大尺寸拍摄的图像数据。
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