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金融界2024年4月8日消息，据国家知识产权局公告，三星电子株式会社取得一项名为“具有栅极绝缘层的半导体器件“，授权公告号CN110931552B，申请日期为2019年6月。
专利摘要显示，本公开提供了具有栅极绝缘层的半导体器件。一种半导体器件包括：栅极沟槽；上栅极绝缘层，在栅极沟槽的上部区域的内表面上；下栅极绝缘层，在栅极沟槽的下部区域的内表面和下表面上并且连接到上栅极绝缘层；第一栅极阻挡层，在下栅极绝缘层的内侧上；栅电极，在第一栅极阻挡层的内侧上并配置为填充栅极沟槽的下部区域；以及栅极掩埋部分，在栅电极上。下栅极绝缘层的上端的内周边的直径大于上栅极绝缘层的下端的内周边的直径。
本文源自金融界
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