华林科纳教你抗蚀剂涂层方法

要确保光刻的可重复性、可靠性和可接受的结果，一个关键的要求是要有一个统一的
在基板表面涂覆一层光刻胶。光刻胶通常分散在溶剂或水溶液中
溶液和是高粘度物料。有许多可供选择的光刻胶涂层取决于
工艺要求:
•旋转涂布
•喷涂
•浸涂
•喷墨打印
•Slot-die涂层
自旋-涂层
旋涂是最常用的方法
在基材上涂上光刻胶。这是一种
具有很高的吞吐量和潜力
同质性。旋涂的原理是
典型地，几毫升光刻胶被分配到
以1000转/分的速度旋转的基板(通常
4000 rpm)。抵抗可以被解除，当
基板是静止的，然后加速到速度
(静电旋涂)，也可以一次涂匀
晶圆已经旋转(动态旋转涂层)。任何
过量的抗蚀剂会从基板边缘脱落
纺丝过程。
光刻胶自动点胶喷嘴
硅片表面的抗蚀剂所经历的离心力使粘性抗蚀剂扩散成一种
统一的薄膜。这种薄膜的高度是由衬底的转速直接控制的，使之可以
操作人员达到所需的膜厚。
除了旋转速度，旋转时间也可以用来控制薄膜厚度。这是由于蒸发
用来分散抗蚀剂的一些溶剂或水溶液，它会使抗蚀剂进一步变稀。的损失
溶剂也导致膜的稳定，所以它不会崩溃在后期处理的基板。
纺丝涂布的主要优点是涂布步骤较短，一般为10-20秒
结合点胶和处理时间，可导致加工次数少于1分钟。另一个优势是
得到的薄膜非常光滑，厚度可以非常精确地重复控制。
当使用非圆形基材或较厚的基材(粘性很高)时，spin-coating的缺点和局限性就会出现。
抗拒。在这些情况下，空气在边缘，特别是在角落的湍流导致抵抗剂干燥
加速的方式。这种过度干燥然后抑制从这些区域的抗蚀剂剥离，造成珠
抗在基板周边堆积;这种建立起来的抗蚀剂的侧壁称为边缘珠。在更
先进的旋转涂层系统，通过精确应用溶剂或限制溶剂去除边缘珠的技术
通过控制空气湍流，发展了生长。
影响旋转涂层的另一个限制是基材表面有大量的特征或缺陷
不同的形貌会影响薄膜厚度的均匀性。在孔洞或空隙中形成抗蚀剂
导致特征边缘的薄膜较厚，薄膜较薄。这可以通过两级自旋剖面来克服，
或者使用另一种涂层技术

喷涂
喷涂是一种可替代旋涂的方法，特别是当基材表面或形态意味着
光刻胶涂层不能达到要求的均匀性。喷涂的基本原理是抗蚀膜
由在μ m范围内雾化成液滴的光刻胶沉积形成。
液滴的形成可能通过各种技术;最简单的就是制造雾化喷雾
由类似于传统喷枪使用的喷嘴和氮气喷嘴组成。氮是首选，因为它
有助于减少湿度或颗粒对抗蚀剂的污染，并产生干燥雾滴。
产生雾化喷雾的第二种标准方法是使用超声波雾化器。超声波
雾化器通过介质的高频机械振动产生抗蚀剂的液滴
被载气输送到基板上。
然后，抵抗剂的液滴沉积在基板表面，在那里它们形成连续的薄膜
光致抗蚀剂。因此，喷涂可以覆盖基材的整个表面，即使是任意形状的基材
无论拓扑结构如何，都要提供共形涂层。此外，光刻胶的浪费也更少
与纺丝涂层相比，收率更高。