文/BU 审核/子扬 校对/知秋
据芯思想研究院最新公布的“2021年度全球半导体前道光刻机销售情况”显示，2021年全球集成电路用光刻机出货量为478台，其中有309台都出自荷兰ASML之手，在EUV光刻机市场中，ASML更是行业唯一的霸主。
光刻机赛道中的另外两家企业——尼康与佳能，所占据的市场份额则是寥寥无几，二者完全不是ASML的对手。
日本光刻机辉煌
其实在光刻机领域，日本有过一段相当辉煌的历史。
上世纪80年代，日本在光刻机领域形成了垄断地位，仅尼康一家企业便独占50%的市场，佳能则次之。
而当时的ASML还是一个十分不起眼的小公司，员工时常为公司明天的发展而担忧。资金、人才等等，ASML样样都缺。
那么，差距如此之大的尼康与ASML，是如何在此后20多年的时间里，做到了地位互换的呢？又为何，日本没能攻克EUV光刻机，而ASML却做到了呢？
ASML崛起
笔者认为，ASML的崛起主要有三方面的原因。
一是，敢于做出尝试。
当时，台积电林本坚构想出了一种“浸润式光刻”方案，这一方案若能够成功，便能够解决光刻机光源波长迟迟无法越过193nm的业界难题。
为此，林本坚找了许多半导体巨头，希望能够合作，其中便有尼康。但是，尼康拒绝了他，毕竟在竞争的关键时刻，尼康不敢去尝试新方案，新方案一旦失败，便会让尼康错过太多的机会。
但尼康殊不知，被它拒绝的才是公司发展最大的机会。
最终，ASML选择与台积电合作，俗话说得好：光脚的不怕穿鞋的。ASML在这场赌局中大获成功，凭借着能实现134nm等效波长的光刻机，实现了对尼康的超越。
从此，ASML成了新的行业霸主。
二是，加入EUV LCC联盟。
这是ASML发展历史中，做出的最关键的决定之一。
彼时，美国集结的全球顶尖的科技力量，成立EUV LLC联盟来攻克极紫外光（EUV）光刻机技术。
彼时，美国本土光刻机公司在日本企业的打击之下，已经没有发展的希望。因此，美国希望能够扶持他国光刻机企业，而尼康等日本公司显然不是一个好的选择，美国可不想养虎为患。
而ASML则抓住了这次机会，做出了诸多许诺与让步，成功加入EUV LCC联盟，接触到了EUV光刻技术。
三是，强大的集结能力。
在EUV LCC同盟中，ASML掌握了EUV光刻技术。但是，想要做出EUV光刻机整机并不能靠一家企业的力量，而是需要全球供应商的共同努力。
毕竟，一台EUV光刻机的零部件将近十万件，这可不是一个小数字。
ASML强大的集结能力，是其能够打造出EUV光刻机的重要原因。目前，ASML在全球拥有5000多家供应商，可见其集结能力之强悍，令人敬佩。
写在最后
正是因为以上三大原因，ASML才实现了对日本光刻机巨头的反超，并且成为全球唯一能够制造EUV光刻机的厂商。
得益于EUV光刻机的重要性，ASML在全球半导体产业链中扮演着至关重要的角色。甚至可以说，它能够影响半导体制造行业的竞争格局。
譬如，手握更多EUV光刻机的台积电，便在芯片制造行业中占据半壁江山，地位难以撼动。而始终拿不到EUV光刻机的中芯国际，则迟迟无法迈入高端制造的行列。
也正因为此，中国想要自研光刻机，摆脱被卡脖子的困境。但是，自研光刻机哪里有那么容易，ASML CEO温·彼得便公开表示，中国不太可能独立复制出顶尖的光刻技术。
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